[其他]光照法生產吡哌酸中間體脫氫酯的工業方法在審
| 申請號： | 101985000000992 | 申請日： | 1985-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN85100992B | 公開（公告）日： | 1987-11-11 |
| 發明（設計）人： | 施俠;楊九金;楊光華;武佩玉;鄭俊民;程榮春 | 申請（專利權）人： | 山東新華制藥廠;華東石油學院 |
| 主分類號： | 分類號： | ||
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 山東省*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | 本發明涉及抗菌藥吡哌酸中間體脫氫酯的工業生產方法。至今國內外生產脫氫酯大多采用三乙胺法，該法的主要缺點是脫氫酯的收率低，脫氫酯的純度低且消耗大量三乙胺等。本發明采用光照法，在由搪玻璃，搪瓷和聚四氟乙烯等材料特制的光化反應器中，以環合酯為原料，加溴后光照脫去溴化氫制得脫氫酯。克服了三乙胺法的上述缺點。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 光照 生產 吡哌酸 中間體 脫氫 工業 方法 | ||
【主權項】：
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