[其他]氧濃度測量裝置及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 101985000001228 | 申請日: | 1985-04-01 |
| 公開(公告)號: | CN1003541B | 公開(公告)日: | 1989-03-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 鈴木清光;三木政之;笹山隆生;鈴木敏孝;上野定寧 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社日立制作所 |
| 主分類號: | 分類號: | ||
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利代理部 | 代理人: | 王申;王憲模 |
| 地址: | 日本東京都千*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | 一種氧濃度測量裝置具有在一個薄片固體電解質(zhì)的每一側(cè)面上形成的兩個電極,其中一個電極曝露在有一擴(kuò)散孔的擴(kuò)散室中,擴(kuò)散室的深度非常小而擴(kuò)散孔是從擴(kuò)散室向側(cè)面延伸的狹縫形狀,從而使該氧濃度測量裝置獲得良好的響應(yīng)特性,另外還公開說明了該裝置的制造方法。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 濃度 測量 裝置 及其 制造 方法 | ||
【主權(quán)項(xiàng)】:
暫無信息
下載完整專利技術(shù)內(nèi)容需要扣除積分,VIP會員可以免費(fèi)下載。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會社日立制作所,未經(jīng)株式會社日立制作所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://m.szxzyx.cn/patent/101985000001228/,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:油爐除臭裝置
- 下一篇:導(dǎo)航用固態(tài)光學(xué)干涉儀
- 同類專利
- 專利分類





