[其他]濾光片生產中用的掩膜在審
| 申請號： | 101985000004654 | 申請日： | 1985-06-17 |
| 公開（公告）號： | CN85104654B | 公開（公告）日： | 1987-03-11 |
| 發明（設計）人： | 山岸豐;石田正彥 | 申請（專利權）人： | 株式會社堀場制作所 |
| 主分類號： | 分類號： | ||
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人： | 王憲模;王申 |
| 地址： | 日本京都府京都*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 暫無信息 | 說明書： | 暫無信息 |
| 摘要： | 一種在濾光片生產中采用的帶有許多孔的掩膜，它可以防止蒸涂的金屬覆蓋到基片的被切割部分而僅僅能覆蓋到基片上為掩膜孔所暴露的部分。掩膜孔的邊緣加工成薄的階梯形，這樣的結構能夠消除所謂的遮蔽部分和避免掩膜的彎曲。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 濾光 生產 中用 | ||
【主權項】：
暫無信息
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