[其他]涂敷光刻膠的方法在審
| 申請號： | 101986000003644 | 申請日： | 1986-06-11 |
| 公開（公告）號： | CN86103644B | 公開（公告）日： | 1988-11-23 |
| 發明（設計）人： | 伊藤鐵男;田沼正之;込義之;門田和也;小林一成 | 申請（專利權）人： | 株式會社日立制作所 |
| 主分類號： | 分類號： | ||
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人： | 李勇 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 光刻工藝，包括在襯底上旋涂光刻膠并將掩膜圖形轉移到光刻膠上而后進行曝光，及在圖形被曝光后在襯底上形成該圖形。當光刻膠顯影圖形因涂敷光刻膠工藝中的參數的增加或減少而脈動變化時，將參數的值設置到與脈動的極值相符。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 方法 | ||
【主權項】：
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