[其他]光譜選擇性吸收黑鋁涂層及制造方法無效
| 申請號： | 85100509 | 申請日： | 1985-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN85100509A | 公開（公告）日： | 1986-08-13 |
| 發明（設計）人： | 胡行方;秦淑引;田靜芬;胡美鳳 | 申請（專利權）人： | 中國科學院上海硅酸鹽研究所 |
| 主分類號： | C23C14/14 | 分類號： | C23C14/14;F24J2/48 |
| 代理公司： | 中國科學院上海專利事務所 | 代理人： | 潘振甦 |
| 地址： | 上海市長寧*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本發明屬于涂層材料和制造方法。通過采用真空鍍膜工藝，控制蒸鍍時的氣氛和壓力，制備一種具有光譜選擇特性好的黑鋁鍍層。該涂層的太陽能吸收率大于0.87，紅外熱發射率大于0.13且可適金屬、玻璃及有機材料等多種類型的底材，具有制備工藝簡單，可實現大面積連續生產等優點，是一種有廣泛應用前景的太陽能光熱利用材料。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 光譜 選擇性 吸收 涂層 制造 方法 | ||
【主權項】：
1、一種光譜選擇吸收特性好的涂層材料，其特征在于主要是金屬鋁組成的黑鋁涂層。
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