[其他]把光掩膜定位在印刷線路板上的裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 86107270 | 申請日: | 1986-10-22 |
| 公開(公告)號: | CN86107270A | 公開(公告)日: | 1987-07-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 約翰·V·克羅寧 | 申請(專利權(quán))人: | M和T化學(xué)股份有限公司 |
| 主分類號: | G03B27/20 | 分類號: | G03B27/20;G03B27/30;G03F9/00;H05K3/12 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利代理部 | 代理人: | 辛哲生,蔡明軍 |
| 地址: | 美國新澤西*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | 一種用于將光掩膜敷在基片上的裝置。用輥子把光掩膜敷在基片上,用真空限制裝置在把光掩膜敷在基片上的過程中限制光掩膜,使其保持張力。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光掩膜 定位 印刷 線路板 裝置 | ||
【主權(quán)項】:
1、一種用于在光敏接受元件上敷柔性光掩膜的裝置,包括:一外殼;用于支承外殼中的光敏接收元件的支承裝置;用于將柔性光掩膜一端固定在所述外殼上,與所述光敏接收元件對準(zhǔn)的固定裝置;用于在光敏接收元件上敷柔性光掩膜的敷設(shè)裝置;其特征在于:在將柔性光掩膜敷在光敏接收元件上時靠張力保持所述柔性光掩膜的保持裝置,所述保持裝置與所述敷設(shè)裝置相離,并且在所述敷設(shè)裝置將柔性光掩膜敷在光敏接收元件上時位于所述敷設(shè)裝置附近并在所述敷設(shè)裝置和所述光掩膜的自由端之間。
下載完整專利技術(shù)內(nèi)容需要扣除積分,VIP會員可以免費下載。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于M和T化學(xué)股份有限公司,未經(jīng)M和T化學(xué)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://m.szxzyx.cn/patent/86107270/,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G03 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)
G03B 攝影、放映或觀看用的裝置或設(shè)備;利用了光波以外其他波的類似技術(shù)的裝置或設(shè)備;以及有關(guān)的附件
G03B27-00 印片設(shè)備
G03B27-02 .接觸印制用曝光設(shè)備
G03B27-32 .投影印制設(shè)備,例如,放大機、復(fù)制照相機
G03B27-72 .控制或改變印片設(shè)備的光線強度、光譜成分或曝光時間
G03B27-73 ..用改變光譜的成分控制曝光,例如,彩色印片機
G03B27-74 ..在印片設(shè)備中安裝曝光表的
G03B 攝影、放映或觀看用的裝置或設(shè)備;利用了光波以外其他波的類似技術(shù)的裝置或設(shè)備;以及有關(guān)的附件
G03B27-00 印片設(shè)備
G03B27-02 .接觸印制用曝光設(shè)備
G03B27-32 .投影印制設(shè)備,例如,放大機、復(fù)制照相機
G03B27-72 .控制或改變印片設(shè)備的光線強度、光譜成分或曝光時間
G03B27-73 ..用改變光譜的成分控制曝光,例如,彩色印片機
G03B27-74 ..在印片設(shè)備中安裝曝光表的





