[其他]高均勻膜層鍍膜裝置無效
| 申請號： | 86205339 | 申請日： | 1986-07-08 |
| 公開（公告）號： | CN86205339U | 公開（公告）日： | 1987-12-09 |
| 發明（設計）人： | 周時培 | 申請（專利權）人： | 周時培 |
| 主分類號： | C23C14/24 | 分類號： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 四川省成都市*** | 國省代碼： | 四川;51 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 本裝置能在凸凹平三種基片上涂高均勻膜層，其摩擦軌道(28或28a)由一對不具軸對稱的面對稱曲面構成。工件夾具(35)距蒸發源(15或19)最近的擺動極值角大于距蒸發源(15或19)最遠的擺動極值角；或在摩擦軌道(28)下方的鍍膜室底盤(8)上同時裝上一個可調可折可卸的空間遮擋片載臺裝置(48)。且操作簡單、使用方便、重復性高，生產效率是現有技術的1至4倍。既能顯著提高光學(或電子)元件及整機的質量，又能降低其成本。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 均勻 鍍膜 裝置 | ||
【主權項】：
1、用于基片涂膜，特別是在基片上涂高均勻膜層的鍍膜裝置，它的蒸發源(15或19)平行并置于被動輪(32)下方，在被動輪(32)上方(或下方)裝有一個摩擦軌道(28或28a)，工件夾具(35)上裝有一個摩擦輪(40)，摩擦輪(40)在摩擦軌道(28或28a)上滾動，其特征在于：(1)摩擦軌道(28或28a)至少由一對不具軸對稱的面對稱曲面構成，工件夾具(35)距蒸發源(15或19)最近的擺動極值角大于距蒸發源(15或19)最遠的擺動極值角。(2)或在蒸發源(15或19)正前方，摩擦軌道(28)，被動輪(32)和工件夾具(35)下方的鍍膜室底盤(8)上同時裝有一個可調可折可卸的空間遮擋片載臺裝置(48)。
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