[其他]原子印章數(shù)控數(shù)顯制版機無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 87205721 | 申請日: | 1987-03-27 |
| 公開(公告)號: | CN87205721U | 公開(公告)日: | 1988-09-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 楊貴昌;余云茳 | 申請(專利權(quán))人: | 云南省印章公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G03F7/213 |
| 代理公司: | 云南省專利事務(wù)所 | 代理人: | 歐亞平 |
| 地址: | 云南省昆明市*** | 國省代碼: | 云南;53 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | 一種原子印章數(shù)控數(shù)顯制版機,屬于液態(tài)、固態(tài)感光樹脂制章、印刷制版專用設(shè)備。目前國內(nèi)外已有的有關(guān)設(shè)備和技術(shù)中,不同程度地存在有由于結(jié)構(gòu)復(fù)雜所致的體積龐大以及曝光定時的準確度不高等缺點。本實用新型在結(jié)構(gòu)上布局合理,并且使用了數(shù)控數(shù)顯定時曝光控制電路,設(shè)有同時上、下曝光裝置,具有結(jié)構(gòu)緊湊、曝光誤差可小于或等于1%秒、性能穩(wěn)定,操作安全簡便、功能多用等優(yōu)點。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 原子 印章 數(shù)控 制版機 | ||
【主權(quán)項】:
1、一種原子印章數(shù)控數(shù)顯制版機,屬于液態(tài),固態(tài)感光樹脂制章印刷制版專用設(shè)備,它包括在結(jié)構(gòu)上使用了機箱蓋(1)、電氣控制面板(5)、二次曝光箱(10)、而在電氣控制部份使用了上、下曝光系統(tǒng)(2、3)、工作電壓監(jiān)測器(6)、調(diào)壓裝置(12)以及報警器(76),其特征在于:a、整機使用箱柜式結(jié)構(gòu),柜體底面安裝有調(diào)壓裝置(12)、抽氣壓片裝置(13)以及烘版裝置(14),柜體側(cè)面安裝有配電板(11),柜體中部裝有活動式二次曝光箱(10),該二次曝光箱(10)的上方以插入吊掛安裝形式裝有下曝光光源燈盒(17),上曝光光源燈盒(21)以吊掛形式安裝在機箱蓋加強角板(22)上,機箱上蓋撐桿(20)以方向活動形式安裝在機箱(18)的頂部,上述機箱蓋加強角板(22)上設(shè)計有一撐桿端點定位凹坑。b、調(diào)壓裝置(12)的電源輸出端(25、26)與工作電源電壓監(jiān)測器(6)的電源輸入端(27、28)并聯(lián),上述監(jiān)測器(6)的電源輸出端(29、30)既與自動曝光數(shù)控數(shù)顯裝置(75)的電源輸入端和回路端(31、32)并聯(lián)同時又通過開關(guān)(K2)與抽氣壓片裝置(13)的電源輸入端和回路端(67、68)并聯(lián),上述自動曝光數(shù)控數(shù)顯裝置(75)的各種功能信號輸入端和輸出端與各相應(yīng)功能的電氣元器件呈電路連接。
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該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于云南省印章公司,未經(jīng)云南省印章公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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G03 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
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G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





