[其他]測量高反射率的方法和裝置

在審

• 申請號: 101985000001719
• 申請日: 1985-04-01
• 公開（公告）號: CN1006089B
• 公開（公告）日: 1989-12-13
• 發明（設計）人: 王占青;陳奮飛;周秀良
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械研究所
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1、一種測量高反射率的方法是多次反射測量的方法，其特征在于采用具有相同曲率半徑的球面反射鏡〔1〕和〔3〕組成的對稱球面諧振腔多次反射結構，該對稱球面諧振腔置于一個可定位旋轉180°的轉動園盤〔6〕上，測量樣品〔2〕放置在通過轉動園盤〔6〕的旋轉軸線并且和對稱球面諧振腔的光軸垂直的位置上，測量樣品〔2〕置于光路前和后測出光電信號分別為E₁和E₂，旋轉轉動園盤〔6〕180°交換兩球面反射鏡〔1〕和〔3〕的位置，這時測量樣品〔2〕置于光路前和后測出的光電信號分別為E₃和E₄，則依公式R＝(E2E4/E₁E₃)^1\4N可獲得樣品〔2〕的反射率。

2、一種用于實施如權利要求1所述的測量高反射率的專用裝置，它包括有平面反射鏡和球面反射鏡，其特征在于測量高反射率的裝置是由球面反射鏡〔4〕、平面反射鏡〔5〕以及放置在可定位旋轉180°的轉動園盤〔6〕上的兩個相同曲率半徑為r的球面反射鏡〔1〕和〔3〕形成的對稱球面諧振腔組成，在通過轉動園盤〔6〕的旋轉軸線并與對稱球面諧振腔光軸垂直的位置上放置測量樣品〔2〕。

3、按權利要求2所述的測量高反射率的裝置，其特征在于，在轉動園盤〔6〕上，取直徑為L的兩個端點，相對共軸放置球面反射鏡〔1〕和〔3〕，靠球面反射鏡中心開有P×q長孔。

4、按權利要求2或3所述的測量高反射率裝置，其特征在于，在雙光束光譜光度計測量室中的參考光束可采用和測量光束相同的對稱的光路結構，并且球面反射鏡〔4〕和平面反射鏡〔5〕可由一面為球面反射鏡，另一面為平面反射鏡所構成的二面角棱鏡〔11〕代替。