[其他]惰性氣體脫氫、氧凈化劑

在審

• 申請號: 101985000002708
• 申請日: 1985-04-01
• 公開（公告）號: CN1006203B
• 公開（公告）日: 1989-12-27
• 發明（設計）人: 陳怡萱;唐學淵;劉蕙菁;李文釧;張俊香;洪祖培;于豐云
• 申請（專利權）人: 中國科學院大連化學物理研究所
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

惰性氣體脫氫、氧凈化劑是由鈀、氧化銅擔載在二氧化鈦上而制成的。利用本凈化劑可在１００－１８０℃條件下，使惰性氣體流中成計量比的Ｈ₂和Ｏ₂化合除去，同時將余量Ｈ₂或Ｏ₂吸收除去，殘余雜質Ｈ₂＜０．４ｐｐｍＯ₂＜０．５ｐｐｍ。本凈化劑比同類型的脫氫脫氧凈化劑的性能好，使用溫度明顯降低，且使用前不需要予活化，使用過程中不需要專門再生處理，是惰性氣體深度脫氧、脫氧較理想的一種凈化劑。

本發明的凈化劑用于凈化惰性氣體，它既可脫除氫，又可脫除氧，可廣泛用于電子工業，半導體材料和器件生產，冶金、儀表、化工和原子能等工業所需N₂、A_r、H_e氣的純化工藝。

惰性氣體的凈化常涉及脫氫或脫氧，有時也有氫和氧需同時脫除。如果只涉及H₂或O₂而且總氣量不大時，通?？捎梦招偷膬艋瘎缬肅uO去H₂，用錳型脫氧劑去O₂;也可用消耗性的材料，如用碳脫氧劑使O₂轉化成CO₂后除去。但對于H₂或O₂雜質含量高且總氣量大的惰性氣體流，則采用H₂-O₂反應的工藝有好處，向含有一種雜質氣（通常為O₂）的原料氣中加入相應量的另一種氣體（通常為H₂），使H₂：O₂接近化學計量2：1，用催化H₂-O₂反應的方法除去，可采用Pd類或Pt類的催化劑。但原料氣中的H₂和O₂往往不能保持精確穩定的計量比，于是出口氣中便有殘H₂或殘O₂，且往往交替波動出現。

為凈化H₂，O₂并存的惰性氣體流，日本特許公報（昭53-33312）曾用一種氧化銅粉末和鈀黑粉末混合的脫H₂脫O₂凈化劑可在150-250℃使用。公報實例說明利用氧化銅粉末和鈀黑粉末混合凈化劑，惰性原料氣含H₂228ppm或含O₂237ppm，在200-300℃凈化后出口氣中H₂、O₂濃度小于0.2ppm，在180℃凈化后，氣流中H₂濃度約10ppm。

本發明的目的在于研制一種凈化劑，用于凈化既含雜質H₂又含雜質O₂的惰性氣體流。要求在較低的溫度下工作，當H₂、O₂累積總量接近化學計量比而短期內H₂/O₂比在一定范圍內波動時，保證尾氣中的H₂和O₂分別小于1ppm，適用于惰性氣體加氫去氧的工藝流程。