[其他]掃描式投影光刻機物鏡

在審

• 申請號: 101985000004369
• 申請日: 1985-06-08
• 公開（公告）號: CN85104369B
• 公開（公告）日: 1988-06-29
• 發明（設計）人: 王之江
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
• 代理公司: 中國科學院上海專利事務所
• 代理人: 張澤純

一種用于掃描式投影光刻機的物鏡，由球面全反射鏡、球面副反射鏡和一球殼形校正透鏡組成，該物鏡的環帶視場狹縫達１０ｍｍ，適用于３６００～４４００，還可在２０００＊波段使用。

本發明主要是為大規模集成電路光刻機提供一種掃描式投影光刻機物鏡。

國外生產掃描式投影光刻機最主要的廠商是美國PeKin Elmer公司，該公司生產的100型、200型、300型掃描式投影光刻機中的物鏡，都是由一塊主鏡和一塊付鏡組成的，該物鏡可用的環帶視場都比較窄，一般為1～2毫米。最近生產的500型掃描式投影光刻機物鏡，包括八片二組元，其中4塊校正鏡，物鏡機構復雜，而它的環帶視場可用的狹縫寬度僅為4毫米。U.S.P.4331390專利文獻的附圖13也揭示了一種單心式光學系統，由球面主反射鏡、球面付反射鏡和校正透鏡組成，校正透鏡處于球面主反射鏡和球面付反射鏡之間。根據所給數據計算表明，這一光學系統很難構成一個實用的寬狹縫寬度的掃描式投影光刻機的物鏡，其次光線四次通過校正透鏡並不能使物鏡成象質量達到光刻要求，而且校正透鏡比較厚，結果是色差大，光能損失大，光學均勻的大尺寸材料也不易獲得，全透鏡加工精度要求高也帶來困難。

本發明的目的是提供一種環帶視場可用狹縫寬度達10毫米的掃描式投影光刻機物鏡，提高生產效率，同時光路結構應盡量簡單以降低物鏡系統成本，并擴展波段使用范圍。

本發明的技術方案是，在由球面主反射鏡和球面付反射鏡的物、象光路上僅增設-球殼形校正透鏡來達到上述目的。

圖一是本發明物鏡的光路示意圖。圖中1是球面主反射鏡，曲率半徑為r₁;2是球面付反射鏡，曲率半徑為r₂;3是球殼形校正透鏡，r₃和s分別為其曲率半徑和厚度，d₁為鏡1與鏡2之間的距離，d₂為鏡1到鏡3之間的距離，4是物鏡系統環帶視場的狹縫寬度△H。物鏡系統各鏡面滿足下列關系：

r₂＝（0.44～0.53）r₁

r₃＝（0.25～0.39）r₁

s＝（0.02～0.03）r₁

d₁＝r₁-r₂

d₂＝r₁-r₃

球殼形校正透鏡是由透紫外光的石英制成的。經實驗該物鏡達到下列指標：放大倍率1倍。環帶視場狹縫寬△H～10mm，物鏡適用于3600～4400，還可在遠紫外2000＊波段使用。