[其他]帶分立、可控衰減元件的狹縫X射線照相裝置

在審

• 申請號: 101985000006432
• 申請日: 1985-08-27
• 公開（公告）號: CN1005294B
• 公開（公告）日: 1989-09-27
• 發明（設計）人: 雨果·夫拉斯布勞姆;西蒙·杜英克
• 申請（專利權）人: 老代爾夫特光學工業有限公司
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利代理部
• 代理人: 王潔

狹縫Ｘ射線照相裝置，包括與狹縫光闌共同工作的分立、可控衰減元件，每個衰減元件附加有阻尼裝置。

本發明涉及狹縫X射線照相裝置，它包括X射線源、光闌（通過該光闌被照體被來自X射線源的X射線束照射），以及安置在光闌鄰近處的分立、可控衰減元件，其中所用的各衰減元件可以抑制X射線束的一個預定區域。

美國專利第3755672（Edholm）中公開了一種包括分立、可控衰減元件的X射線裝置，在這種先有技術裝置中，可控衰減元件在物體曝光于X射線束過程中一起構成靜電濾光器。所述先有技術裝置的各衰減元件的衰減因子是在進行實際X射線照相之前確定的，因此，在曝光時先有技術裝置的衰減元件不移動，進而它們不必附加阻尼裝置。

在正審查的中國專利申請85106837（在此以此為參考）中描述了這樣一種裝置，該裝置包括分立、可控且帶有狹縫光闌的衰減元件，所用的狹縫光闌相對待查體作掃描移動，其中可控元件相對X射線束的位置在掃描移動中，在適當的控制信號（1）的控制下可變。中國專利申請85166837中描述了適當衰減元件的各種實施例。在所述中國專利申請中描述的多數衰減方法是基于采用X射線衰減材料制成的、或是涂有這種材料的并列的分立元件的;在適當的控制信號控制下，每個元件可以至少部分移至穿過、或者將要穿過狹縫光闌的X射線中，并且，這種移動可大可小，以便能局部衰減X射線。

若使用這種分立元件，會出現這樣的危險，即在控制信號的影響下，元件會進入一種以很不希望的方式的振動的狀態，或者當這種狀態改變時，元件會偏離它們的位置。因此，需要有一種阻尼裝置，以抑制分立衰減元件的振動或滑動。

本發明的一個目的就是要滿足這種需要。為此目的，根據本發明，上述類型裝置的特征在于，每個可控衰減元件都附加有一個阻尼件。

下面將參照附圖，對根據本發明的裝置的幾個實施方案予以描述。在附圖中，

圖1顯示了根據本發明的裝置的第一實施方案;

圖2是根據本發明的裝置的側面圖;

圖3是沿圖2中Ⅲ-Ⅲ線所得的截面圖;

圖4顯示的是根據本發明的裝置的第三實施方案。

圖1A為一個截面圖，顯示的是帶有狹縫S的狹縫光闌1;來自以狹縫X射線照相術中常規方式工作的X射線源2的、基本上是平面的扇形X射線束B穿過狹縫S。

細長的衰減元件3的自由端在操作中或多或少地伸入X射線束B中，衰減元件3與多個并列的類似衰減元件相聯。在沒有示出的控制裝置的影響下，每個衰減元件在操作中能按照箭頭4所指方向，相對于固定支點5做旋轉運動。適宜的控制裝置在正在審理的8400845號荷蘭專利申請中得到了進一步的描述。

在圖1所示的實施方案中，每個衰減元件包括連桿6，連桿6大致垂直延伸至衰減元件的縱向。所述連桿6遠離衰減元件的一端與置于圓筒8中的活塞7相連。所述圓筒以已知方式充有一種液體，如油，以便在某種程度上對活塞在圓筒中的運動加以制動，從而避免衰減元件的振動或滑動。

圖1B顯示的是用于滑板狀衰減元件3′的類似的阻尼件。以下將要描述的本發明的實施方案，既可用于滑板狀衰減元件，又可用于旋轉型細長衰減元件。

在圖2和圖3所示的本發明實施方案中，每個衰減元件包括一個葉片9，葉片9伸至裝有適當液體10的容器11中。可以用油乙醇或水作為阻尼液體。

葉片是用剛性材料制成的，并且可以被制成是帶波紋的，如線9a所示。葉片可以被膠合在衰減元件上，最好葉片是用合成塑料材料制成的。葉片也可通過連桿而與衰減元件相連。這類實施方案尤其適用于滑板狀衰減元件。容器11可以用任何適合的材料制成。圖3是圖2的正面圖，其中略去了容器11的前壁。每個衰減元件3a-3f都配有伸至容器11中的液體10里的葉片9a-9f。

為了避免在相聯的衰減元件的運動中葉片相互影響，最好在容器中設置平行的隔離件12-16。以便每個葉片伸向容器中各自的倉內。

而且，隔離件12-16還增強了阻尼效應。