[其他]半導(dǎo)體器件的制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 101985000006463 | 申請(qǐng)日: | 1985-08-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN85106463B | 公開(公告)日: | 1987-07-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 木山精一;今井秀記 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三洋電機(jī)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | 分類號(hào): | ||
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利代理部 | 代理人: | 劉暉 |
| 地址: | 日本國(guó)大阪府守*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體器件 制造 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種具有很多光電轉(zhuǎn)換區(qū)的半導(dǎo)體器件的制造方法,該方法包括下列各步驟:準(zhǔn)備好一個(gè)基片,在上述基片的一側(cè)主表面上連續(xù)地形成一層半導(dǎo)體薄膜,再用能量束,例如用激光束,從上述基片的另一側(cè)主表面進(jìn)行照射,并去除該部位的半導(dǎo)體薄膜,從而把上述半導(dǎo)體薄膜分隔成各個(gè)區(qū)域。
本發(fā)明涉及到半導(dǎo)體器件的制造方法,更具體地講,本發(fā)明涉及到使用能量束例如激光束,制造半導(dǎo)體器件的方法。
人所共知,太陽能電池或線性光敏元件陣列等等是采用光有源層那樣的半導(dǎo)體薄膜的半導(dǎo)體器件。本發(fā)明直接涉及到制造具有多個(gè)光電轉(zhuǎn)換區(qū)域的半導(dǎo)體器件的方法。
圖1表示太陽能電池基本結(jié)構(gòu)。是本發(fā)明運(yùn)用的,并構(gòu)成本發(fā)明技術(shù)背景的基本結(jié)構(gòu)。該結(jié)構(gòu)已在美國(guó)專利號(hào)4,281,208中予以頒布,并轉(zhuǎn)讓給了本發(fā)明的同一受讓人。這里,在必要的有限范圍內(nèi)扼要敘述一下如圖1所示的太陽能電池的基本結(jié)構(gòu),以便更好地理解本發(fā)明。
在一個(gè)玻璃基片10上形成多個(gè)光電轉(zhuǎn)換區(qū)14a,14b,14c……,在與這些光電轉(zhuǎn)換區(qū)相應(yīng)的預(yù)定間隔上,分別形成透明薄膜電極11a,11b,11c……。在其上面再用一層非晶硅等物構(gòu)成的半導(dǎo)體薄膜部位12a,12b,12c……疊加上去。在半導(dǎo)體薄膜部位12a,12b,12c……上形成延伸到相鄰?fù)该鞅∧る姌O并與之連接的背面薄膜電極13a,13b,13c……。每個(gè)半導(dǎo)體薄膜部位12a,12b,12c…都包括一個(gè)平行于相應(yīng)薄膜表面的PIN結(jié)。并且當(dāng)光線通過玻璃基片10和透明薄膜電極11a,11b,11c,……入射時(shí),由于半導(dǎo)體薄膜的PIN結(jié)的作用,在各個(gè)半導(dǎo)體薄膜部位12a,12b,12c,…上產(chǎn)生光生電勢(shì)。因?yàn)楸趁姹∧る姌O13a,13b,13c,…與相鄰的透明薄膜電極相連,所以各個(gè)半導(dǎo)體薄膜部位12a,12b,12c,…產(chǎn)生的光生電勢(shì)被逐次算術(shù)相加而輸出。通常為了制造這種結(jié)構(gòu)的太陽能電池以達(dá)到超高級(jí)加工精度,一般使用光刻技術(shù)。當(dāng)使用這種光刻技術(shù)時(shí),可參考圖1中的實(shí)例說明該過程,首先在玻璃基片10的一個(gè)主表面上形成一層透明電極薄膜,并且在相應(yīng)的透明薄膜電極11a,11b,11c……的面積上形成一層光刻膠薄膜,然后進(jìn)行光刻,再把光刻膠薄膜去掉,這樣就制成了透明薄膜電極11a,11b,11c,……。此后,在玻璃基片10的一個(gè)主表面上全部形成半導(dǎo)體薄膜。在相應(yīng)于半導(dǎo)體薄膜位12a,12b,12c,……的面積上,先形成一層光刻膠薄膜部分,再對(duì)它進(jìn)行腐蝕,腐蝕后,再去掉光刻膠薄膜部分,用這種方法可以形成半導(dǎo)體薄膜12a,12b,12c,……。雖然這種光刻方法在簡(jiǎn)單的工藝過程中是最好的一種,但是由于在光刻膠中存在著的針孔或在光刻膠薄膜周圍出現(xiàn)的脫皮問題,很容易在半導(dǎo)體薄膜上產(chǎn)生缺陷。
為此,曾考慮過不使用光刻技術(shù)這個(gè)工藝,例如,在1981年9月29日頒布的美國(guó)專利序號(hào)為4,292,092的專利中,介紹的一種方法是可以考慮使用激光束。這種方法根本不需要使用濕法工藝,而用激光束照射的方法,可以十分有效地在該點(diǎn)上進(jìn)行精密的加工。
然而,按照慣用的照射激光束的方法,還要解決下面很多問題。當(dāng)使用激光束時(shí),由于激光束照射到如圖2所示的光電轉(zhuǎn)換區(qū)的相鄰間隔部位12′上,并且在該部位上去掉半導(dǎo)體薄膜,把半導(dǎo)體薄膜分隔成若干個(gè)光電轉(zhuǎn)換區(qū),或者用激光束照射如圖3所示的相鄰間隔部位13′,再去掉其中的背面電極薄膜,就能把背面電極薄膜分隔成若干個(gè)光電轉(zhuǎn)換區(qū)。
然而,由于在相鄰的間隔部位12′或13′中,存留下一些半導(dǎo)體薄膜或背面電極薄膜的熔化殘余物12r或13r,不可能獲得精確的圖形。這種殘余物12r或13r一般存留在激光束掃描線軸線的兩側(cè)。事實(shí)上這是由于激光束的能量密度的分布只有少量處于正態(tài)分布狀態(tài)所引起的,也就是說這是因?yàn)榧す馐谙噜忛g隔部位12′和13′兩端的能量小于它中心部位的能量所引起的。在要去掉的相鄰的間隔部位12′或13′中遺留下來的殘余物12r或13r會(huì)引起各種麻煩。當(dāng)把半導(dǎo)體薄膜分成各個(gè)區(qū)域后,在圖2的相鄰間隔部位12′中遺留有半導(dǎo)體薄膜的殘余物12r時(shí),在這上面形成的背面電極薄膜的連接強(qiáng)度勢(shì)必減小,而且到最后會(huì)導(dǎo)致背面電極薄膜出現(xiàn)破裂,這是缺點(diǎn)之一。其次,當(dāng)背面電極薄膜材料的殘余物13r存留在如圖3所示的相鄰間隔部位13′里時(shí),由于在同一個(gè)光電轉(zhuǎn)換區(qū)域中(或同一個(gè)電池內(nèi))的透明電極薄膜和背面電極薄膜直接接觸,就可能發(fā)生短路現(xiàn)象,這是缺點(diǎn)之二。
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