[其他]微疊薄層鍍覆

在審

• 申請號: 101985000006785
• 申請日: 1985-09-07
• 公開（公告）號: CN1003523B
• 公開（公告）日: 1989-03-08
• 發明（設計）人: 詹姆斯·R·斯尼德
• 申請（專利權）人: 帕克鋼筆公司
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利代理部
• 代理人: 李勇

1、把第一種材料和第二種材料鍍在耐熱襯底上的一種物理汽相沉積方法，其中第一種材料為高熔點金屬的氮化物，第二種材料為貴金屬或該貴金屬的合金，其特征在于，至少在襯底上連續和交替地沉積四層第一種材料和第二種材料的非不透明層，這些層一層疊于一層之上，且各層和鄰接層不發生相互作用，第一種材料層的單層厚度在0.01和0.33μm之間，第二種材料層的單層厚度在0.003和0.13μm之間，至少要在襯底被包住后才停止沉積第一和第二種材料。

2、權利要求1所述的方法，其中高熔點金屬為鈦、鉭、鋯或鉿。

3、權利要求1或2所述的方法，其中貴金屬為金、銠、鈀、銀、鋨、銥或鉑。

4、權利要求1所述的方法，其中離襯底最遠的最外層是第二種材料構成的層。

5、權利要求1所述的方法，其中使用至少兩個置于單一真空室中的陰極濺射源（它們被有效地分開以防止第一種材料和第二種材料的原子等級混合）而進行陰極濺射沉積第一種材料層和第二種材料層。

6、權利要求1、4或5所述的方法，其中高熔點金屬氮化物為氮化鈦，貴金屬為金。