[其他]電解槽及其工作方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 101985000008119 | 申請日： | 1985-11-04 |
| 公開（公告）號： | CN1003245B | 公開（公告）日： | 1989-02-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 理查德·尼爾·比瓦 | 申請（專利權(quán)）人： | 陶氏化學公司 |
| 主分類號： | 分類號： | ||
| 代理公司： | 中國國際貿(mào)易促進委員會專利代理部 | 代理人： | 余剛 |
| 地址： | 美國密執(zhí)*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 電解槽 及其 工作 方法 | ||
1、一種電解槽，包括一個含有一對電極的電解槽框架，該對電極由一常規(guī)平板陽極和一常規(guī)平板陰極組成，以及一個不滲水薄膜，它置于所述電極之間從而形成一陽極室和一個陰極室，其特征在于：
一薄膜容納空隙，它包括在至少所述電極（26，28，11a，11b，26a，26b）之一和電解槽框架（21，22）之間以及在一電極表面中的至少一個間隙（11c，25a，27a），當電解槽工作期間，只要在至少一個電極室保持高于另一電極室的壓力從而使薄膜被壓向所述電極表面，并且部分薄膜被壓入所述間隙則所述間隙即可有效地消除任何皺折。
2、權(quán)利要求1所述的電解槽，特征是該薄膜容納空隙至少是陽極和電解槽之間的一個間隙（25a）。
3、權(quán)利要求1或2所述的電解槽，特征是該薄膜容納空隙是陽極表面限定的至少一個間隙（11c）。
4、權(quán)利要求1所述的電解槽，特征是陽極的邊緣凹向陽極室并離開薄膜表面。
5、權(quán)利要求1所述的電解槽，其中，在陰極室中保持一個高于陽極室的壓力，而且薄膜被壓向陽極，特征是部分薄膜（12）被壓入間隙。
6、一種用于在電解槽中繃緊薄膜的方法，其中，所述電解槽包括一個電解槽框架，它具有含有常規(guī)平板的陽極的陽極室，含有常規(guī)平板陰極的陰極室，以及一個不滲水的薄膜，它將陽極室和陰極室隔離開，該方法的特征是：
一薄膜容納空隙，至少包括一個間隙，用于在電解槽工作期間容納部分薄膜，所述間隙位于所述陽極和/或所述陰極和電解槽框架之間以及一電極表面內(nèi)，而且
在至少一個電極室內(nèi)保持高于另一含有間隙的電極室的壓力，以便將薄膜壓向陽極或陰極并因之將部分薄膜壓入間隙，從而消除薄膜中的皺折。
7、權(quán)利要求6所述的方法，其中的陽極室含有間隙，其特征是：對陰極室施加的壓力高于陽極室的壓力。
8、權(quán)利要求6所述的方法，其中的陰極室含有間隙，特征是：對陽極室施加的壓力高于陰極室的壓力。
9、權(quán)利要求6、7或8所述的方法，特征是間隙是位于陽極表面內(nèi)的窄槽。
10、權(quán)利要求9所述的方法，特征是陽極邊緣凹向陽極室并離開薄膜表面。
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