[其他]具有包含鉻還原劑之氧化物陰極的真空電子管

在審

• 申請號: 101985000008462
• 申請日: 1985-11-13
• 公開（公告）號: CN85108462B
• 公開（公告）日: 1988-10-19
• 發明（設計）人: 凱尼希·昆一山江
• 申請（專利權）人: 美國無線電公司
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 吳秉芬

1、一種具有氧化物陰極的真空電子管，包括一金屬基體，一套筒，一位于套筒內的將該基體加熱到其工作溫度的裝置，以及一在該基體上的基本上由堿土金屬氧化物構成的層，其特征在于，所說基體（18）基本上不含硅，而含有有效濃度范圍為5到20%（重量）的鉻金屬用以逐漸還原該氧化物，以產生堿土金屬。

2、根據權利要求1所述的管子，其特征在于，該基體（18）依以下制備：將基本上不含鉻和硅的金屬基片層（22）與含有較大比例鉻金屬而不含硅的金屬輔助層（23）結合一起，用一種加熱可分解成該氧化層（19）的材料涂覆在該金屬基片層的表面，然后在特定的溫度下加熱該經涂覆層和結合了的金屬層，該特定溫度為：在該溫度下，所說的輔助層中有效比例的鉻能逐漸遷移到該基片層和該涂層中。

3、根據權利要求2所述的管子，其特征在于，該基體中的鉻金屬，其平均濃度約6.0%（重量）。

4、根據權利要求3所述的管子，其特征在于，將涂層和結合金屬層在溫度為1030到1080°K的范圍內加熱至少50小時。

5、根據權利要求1所述的管子，其特征在于，除了該基體（18）含有鉻金屬外，還含有至少一種有效比例的還原劑。

6、根據權利要求1所述的管子，其特征在于，該金屬基體（18）基本上包括主要比例的鎳金屬和包括（a）該鉻金屬和（b）至少一種快速作用的金屬還原劑的一種小比例金屬還原劑，以還原該氧化物層（19），并且該氧化物層包括氧化鋇。

7、根據權利要求6所述的管子，其特征在于，所述的一種快速作用的金屬還原劑為鎂金屬。

8、根據權利要求1所述的管子，其中在所說基體上的所述層包括鋇的氧化物作為主要組分，其特征在于，該基體（18）基本上是由主要比例的鎳金屬和有效濃度范圍為5到20%（重量）的小比例鉻金屬組成，鉻金屬作為氧化鋇的主要還原劑。

9、根據權利要求8所述的管子，其特征在于，所說的鉻金屬是通過熱遷移而從鄰接的鉻源導入該基體（18）中。

10、根據權利要求9所述的管子，其特征在于，所述鄰接源是涂覆于該基體（18）上的與涂覆有氧化物層（47，77）的基體表面相對的表面上的一鉻金屬層（45，79）。

11、根據權利要求9所述的管子，其特征在于，該鄰接源是鎳-鉻合金結合到該基體（18）表面的片條（25），該表面是與涂覆有氧化物層（28）的基體表面相對的表面。