[其他]一種放射治療裝置

在審

• 申請號: 101985000009066
• 申請日: 1985-12-16
• 公開（公告）號: CN1003489B
• 公開（公告）日: 1989-03-08
• 發明（設計）人: 董國臣
• 申請（專利權）人: 董國臣
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1、一種放射治療裝置，具有放射源，其特征在于它還包括一個負壓敷用器部分用光學玻璃制成可透過激光和放射線的裝置，和一個帶有真空計的抽真空裝置，抽真空裝置用耐壓軟管與負壓敷用器連接，放射源發出的射線入射在負壓敷用器內的負壓區上。

2、根據權利要求1所述的裝置，其特征在于其中的放射源是激光器、X光機或其它射線機。

3、根據權利要求1所述的裝置，其特征在于其中的抽真空裝置是唧筒或真空泵。

4、根據權利要求1所述的裝置，其特征在于其中負壓敷用器的光學玻璃可以是雙面鍍增透介質膜的K₉光學玻璃，激光和放射線直接射入，或在敷用器1～5米內用可旋轉的全反射鏡從各個角度反射至敷用器內的負壓區，使激光束透過至照區的激光功率損失小于5%，選鍍的增透介質膜由使用的激光波長決定。

5、根據權利要求1所述的裝置，其特征在于其中負壓敷用器的形狀有長方形、正方形、園柱形等，杯口有闊邊、園形邊、彎曲形邊等，根據大小型號杯口直徑為0.6～18厘米，杯高1～10厘米，厚1～5毫米，每平方厘米耐壓1.5公斤以上，敷用器頂端或側壁吸氣管呈園錐形，長1～4厘米，錐底直徑0.3～2.0厘米，尖部直徑0.2～1.8厘米。

6、根據權利要求1所述的裝置，其特征在于其中敷用器內壁鍍全反射介質膜，使光導纖維頂端發光體的激光在敷用器內全部反射照在局部負壓區內的組織上，鍍何種全反射介質膜，由使用的激光波長決定。

7、根據權利要求1所述的裝置，其特征在于其中藏有放射源的敷用器內壁襯以一定厚度的鉛皮，根據使用的放射源的劑量選用鉛皮的厚度。

8、根據權利要求1所述的裝置，其特征在于其中敷用器杯口直徑為1～2厘米、高0.8～1.2厘米的園柱形的內藏光導纖維或放射源的小型敷用器，可在窺鏡的導引下置入腔內。

9、根據權利要求1、2所述的放射源激光器，其特征在于其中導入敷用器內的光導纖維，一端由敷用器與真空泵間連接的三通管的一端進入敷用器內，管口內軟橡皮塞中央軸心安裝20～400微米芯徑的光導纖維，發光導體外層用四氟乙稀作套索，彎曲度為40×芯徑，壓緊橡皮塞使管口密封防止漏氣，光導纖維另一端與激光諧振腔輸出端偶合。

10、根據權利要求1、2所述的放射源激光器，其特征在于其中導入敷用器內的光導纖維頂端有全園柱形、球形、擴束形和光針形等，光導纖維頂端發光體長0.5～3厘米，導光率在70%以上。

11、根據權利要求1、2所述的放射源激光器，其特征在于其中光導纖維與激光器諧振腔輸出端的偶合的聚焦透鏡的焦距小于光導纖維數值孔徑角，光斑直徑小于光導纖維的截面，聚焦透鏡鑲嵌于3～6厘米長、內徑2～3厘米的輕金屬或塑料的鏡筒內，與激光器諧振腔輸出端以螺旋連接，鏡筒內中央軸心安裝端面用金鋼石刀切割平整的光導纖維。

12、根據權利要求1、3所述的抽真空裝置唧筒，其特征在于其中唧筒吸氣管口有一單向閥門，可連續對敷用器進行抽氣，負壓強度不低于380托，抽氣速率每秒鐘可達0.2升，局部負壓區內的真空度可達50%以上。