[其他]具有輪胎氣密層定位器的自封接輪胎

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 101986000000878
• 申請日: 1986-01-20
• 公開（公告）號: CN1004923B
• 公開（公告）日: 1989-08-02
• 發(fā)明（設計）人: 孫伍洪;費利浦·J·肯吉羅希
• 申請（專利權(quán)）人: 尤尼羅亞爾輪胎公司
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利代理部
• 代理人: 王彥斌;石小梅

一種自封接充氣輪胎，其內(nèi)表面具有一層氣密材料和一些邊條，為了在輪胎的制造和工作期間將氣密材料保持在合適的位置，所述邊條部分地與氣密層相重疊。利用具有邊條和不透氣合成橡膠帶的層壓結(jié)構(gòu)使制造得以簡化，一層防穿孔氣密材料位于不透氣合成橡膠帶的中心，邊條粘附在合成橡膠帶上并部分地與氣密層的邊緣相重疊。一種制造這種輪胎的方法，胎體在輪胎模壓和硫化之前粘附到層壓結(jié)構(gòu)上。在模壓過程中，與氣密層部分地重疊的邊條把氣密材料保持在合適的位置從而防止它亂流。

本發(fā)明涉及充氣輪胎，特別涉及自封接充氣輪胎及其制造方法。

本技術(shù)領域的人員清楚地知道防止輪胎漏氣的方法，特別是防止無內(nèi)胎輪胎漏氣的方法。例如，美國3，935，893（Stang等）、3，952，787（Okado等）和4，064，922（Farber等）號專利都公布了自封接輪胎，在這方面，它們具有代表性。在這些公開的文件中，一般都使用氣密材料，它是半固化的橡膠材料，對胎體內(nèi)部和胎體不透氣的加強層來說，它具有一定的粘附性。過去，在這方面使用過不少種材料，并取得了不同程度的成功。

當氣密材料在輪胎硫化以前被施加到胎體上時，氣密材料具有無規(guī)則流動的趨向，即有從它所在的胎面和胎側(cè)加強部區(qū)域流走的趨向。另一個問題是，在輪胎的模壓期間不能避免輪胎粘到模壓設備上，因為，氣密材料本身具有粘附性。由于模壓過程中的高溫，這些問題更為嚴重。由于這些原因，氣密材料通常是在輪胎已經(jīng)成形并已硫化過之后施加到胎體上。不過，這種工作方式需要一些既增加成本又浪費能源的附加工序。這些工序包括用溶劑或肥皂和水擦洗清理胎體內(nèi)部（見美國3，935，893號專利第4欄第44-57行）。清洗之后，氣密材料就可施加到輪胎內(nèi)部并暴露于正常硫化的條件下（亦見美國3，935，893號專利第4欄第58行至第5欄第23行）。

雖然在自封接輪胎的生產(chǎn)中，以前的設計包括較高費用的附加工序，但這種輪胎的工作仍存在一些問題。當這種自封接輪胎高速旋轉(zhuǎn)時，由于離心力的作用，氣密材料離開胎側(cè)加強部區(qū)域而流向輪胎的中心部分。這可能會降低胎側(cè)加強部的防穿孔能力。

總的說來，先有技術(shù)公開了自封接充氣輪胎的結(jié)構(gòu)，在這種結(jié)構(gòu)中，為了使輪胎工作時氣密材料保持在合適的位置。在氣密材料上覆蓋了一層不透氣的材料。美國第3，981，342號專利公布了這種結(jié)構(gòu)的一個例子，在它的第4圖上，襯里25覆蓋氣密材料層。

這種結(jié)構(gòu)的缺點是，氣密層以及將氣密層保持在合適位置的不透氣材料必須在輪胎模壓和硫化之后以獨立的工序粘附在輪胎上。這是因為，在輪胎模壓和硫化過程的高溫中，氣密材料釋放氣體并膨脹。這種膨脹和釋放出的氣體使不透氣材料產(chǎn)生氣泡和碎裂從而導致它與分布在輪胎內(nèi)部的氣密材料分離。

另一方面，可以在胎體中使用沒有任何覆蓋層的氣密材料層，這被公布在上一個專利的圖1中。不過，如果采用這種方法，氣密材料不能保持在合適的位置并產(chǎn)生上文所述的那種流動。即使這樣，氣密材料還是必須在輪胎模壓和硫化之后施加到輪胎中，因為在輪胎制造中，氣密材料將粘附在輪胎合成鼓和其它設備上。

本發(fā)明的目的是提供一種改進了的自封接充氣輪胎，它具有氣密材料層，該氣密材料層可以在輪胎模壓和硫化之前與輪胎形成一體的結(jié)構(gòu)。

本發(fā)明的另一個目的是提供一種改進了的自封接充氣輪胎，它具有氣密材料層，在輪胎工作期間，該氣密材料層不會從胎面和胎側(cè)加強部區(qū)域流走。

本發(fā)明的另一個目的是提供一種制造自封接充氣輪胎的方法，根據(jù)這種方法，氣密材料層在輪胎模壓和硫化之前與輪胎形成一體結(jié)構(gòu)，根據(jù)這種方法，在模壓過程中，氣密材料保持在合適的位置上。

本發(fā)明的另一個目的是提供一種制造自封接充氣輪胎的方法，該方法使得在制造中使用較少的工序，因此，降低了這種輪胎的制造成本。

最后，本發(fā)明還有一個目的是提供一種處理暴露的氣密材料層的方法，它允許氣密材料層在輪胎制造期間保持暴露狀態(tài)。