[其他]用于真空離心式粉碎機的固體顆粒拋射裝置

在審

• 申請號: 101986000000993
• 申請日: 1986-02-14
• 公開（公告）號: CN86100993B
• 公開（公告）日: 1988-04-06
• 發明（設計）人: 格拉德·塞維林格
• 申請（專利權）人: 法瑪湯姆公司
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利代理部
• 代理人: 李毅;孫蜀宗

本發明涉及用于真空離心式粉碎機的固體顆粒拋射裝置，它有一個被驅動的分料盤，盤內具有多個拋射通道。根據本發明，每條通道（２１，２２）內的顆粒導向面是正曲線Ａ構成的，該正曲線Ａ的彎曲方向與分料盤（２０）的旋轉方向相同，而且是根據接觸材料磨擦系數合理地計算出輪廊線，在由曲線Ａ構成的導向面上附著由顆粒本身組成的穩定的自身保護層（３０），在其磨損的同時又自動地產生保護層（３０）。本發明適用于粉碎例如水泥或煤之類的物料。

本發明涉及一臺用于真空離心式粉碎機的固體顆粒拋射裝置，在粉碎機內借助于離心力把要粉碎的顆粒拋射到安置在真空殼體內的一個撞擊面上。

已知這種形式的粉碎機利用離心力把要粉碎的物質以很高的速度拋射到靶標上，整個裝置處于真空中，以避免拋射的顆粒受空氣的阻力干擾。

一臺真空粉碎機有一個既密封又抗壓的外殼，殼體內被抽成真空，同時在其上部之內裝有被驅動的高速旋轉的分料盤。

分料盤在其軸向有一個中央給料腔，在腔的上部有一個軸向的孔，其孔位于料斗的下面，用一個流量控制裝置把要粉碎的物質送進給料斗，例如放在給料腔的排料出口處的螺旋給料器用作氣鎖裝置，這樣就能使原料進入真空殼體內。

此外，分料盤有多個拋射通道，通道的軸線定在垂直于軸的分料盤端面的中間位置上，而且有與給料腔相通的內開口和與分料盤圓周相通的外開口，這樣由流量控制裝置把原料送入到中央給料腔內，由于離心力的作用原料被拋入通道內，同時又從盤的輸出口拋射到形成靶標的一組平板上，而且所有這些平板，沿著殼體的側壁安置在盤的四周。形成靶標的這組平板的下面放有漏斗，用以回收顆粒物質粉碎后的粉末，而顆粒物質的粉碎是通過把物質從盤內的通道拋射到靶標來實現的。

當分料盤以足夠的速度旋轉時，這便在通道內產生徑向加速度和切向加速度，以便在排料出口處得到所要求的速度。顆粒和分料盤通道之間的接觸作用取決于旋轉的速度，因此通道的磨損現象，特別在盤的排料出口，也取決于速度，這種磨損現象取決于顆粒的物理特性，但是，顆粒和分料盤之間的接觸作用以及通道內顆粒相對位移速度都受拋射速度的影響，只要本身拋射速度很大，磨損是相當嚴重的。

直到現在，所采用的保護措施，特別是表面的處理還不可能制造出足夠耐用的分料盤，因此就要經常不斷地更換分料盤，這樣做，明顯是成本高，因為制造和加工每個盤子要求有很高的精度，又因盤有很高的轉速就需要承受很大的應力。此外，進行更換該盤的工作需要停止粉碎機運轉，這與要求連續生產的場合的工業生產是有矛盾的，例如水泥生產或礦石粉碎。

本發明的目的是提供一種新型的粉碎機盤，在保持同樣的拋射速度時，通過降低拋射通道內的與分料盤接觸的顆粒的位移速度，使上述的這些缺陷得到改善。

根據本發明，每個通道內的顆粒導向面是一條由正曲線形成的導向面，該曲線的彎曲與分料盤的旋轉方向相同，根據接觸材料的摩擦系數合理地計算出的輪廓線，在所說的導向面上附著由顆粒本身形成的一層穩定的自身保護層，在其磨損的同時再次自動產生保護層。

通過對下面一個實施例的說明來更好地了解本發明，這個實施例附有圖，其中：

圖1是本發明所使用的整個分料盤粉碎機的在垂直面上的剖視圖。

圖2中是沿圖1的A-A線所取的剖視圖。

圖3是與圖2相同的一個圖，表示粉碎機工作時分料盤內顆粒的運動軌跡。

圖1表示有垂直軸線的圓柱形殼體，在其上部有一個大橫截面的垂直管2，固定在它的側邊上的支管3與真空泵連接，但是真空泵沒有在圖上表示，進料斗4和5安置在管2內，進料斗5連到振動器6上。

位于振動進料斗5的下面，有一個完全固定在盤20上的進料斗7，它形成轉動體的上部。在分料盤的徑向方向上開有若干個均勻分布的通道，例如通道21和22。

靶標8環繞在這些通道的延伸線與殼體之間，靶標的碰撞表面用耐磨及耐沖擊材料覆蓋。