[其他]隙縫輻射照相裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 101986000001248 | 申請(qǐng)日: | 1986-01-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN86101248B | 公開(公告)日: | 1988-06-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 西蒙·杜因克;雨果·弗拉斯布洛姆 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 德瓦德—代爾夫特光學(xué)工業(yè)公司 |
| 主分類號(hào): | 分類號(hào): | ||
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理有限公司 | 代理人: | 林長(zhǎng)安 |
| 地址: | 荷蘭代*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 隙縫 輻射 照相 裝置 | ||
1、一個(gè)用于隙縫輻射照相的裝置,包括一個(gè)X射線源和一個(gè)隙縫隔板,通過此隔板一個(gè)要被檢驗(yàn)的物體能被一個(gè)平面扇形X射線束所掃描,多個(gè)并排的舌形衰減元件安裝于隔板的隙縫上,這些元件被安裝成其活動(dòng)端可大可小地?cái)[動(dòng)進(jìn)入到X射線束中,為的是起到局部衰減作用,其特征在于:所述每個(gè)舌形衰減元件的縱向中心線向X射線源方向延伸,并且所有衰減元件的縱向中心線相交于至少一個(gè)公共點(diǎn)上。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于:衰減元件的縱向中心線與X射線流B的扇形角(2Q)的等分面m相交于X射線源的射線焦點(diǎn)(F)外側(cè)的地方。
3、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的裝置,其特征在于:舌形衰減元件被分成若干組,一個(gè)組的各元件的縱向中心線相交于X射線焦點(diǎn)外側(cè)的一個(gè)點(diǎn)。
4、根據(jù)上述權(quán)利要求中的一個(gè)裝置,其特征在于:其中一個(gè)舌形元件是這樣安裝的,以使其縱向中心線延伸在由X射線束的扇形角(2Q)的等分面上,最好元件數(shù)為單數(shù)。
5、根據(jù)上述權(quán)利要求1所述的一個(gè)裝置,其特征在于:舌形元件對(duì)著X射線源的窄邊的寬度大于X射線焦點(diǎn)(F)的尺寸(f)。
6、根據(jù)上述權(quán)利要求1所述的一個(gè)的裝置,其特征在于:舌形衰減元件基本上是矩形的,置于一個(gè)中央元件兩側(cè)的每個(gè)元件組中的每個(gè)元件的縱向中心線相交于由各組確定的一個(gè)匯聚點(diǎn)上,該匯聚點(diǎn)位于遠(yuǎn)離元件并由通過焦點(diǎn)(F)垂直于中央元件縱向中心線的平面為邊界的半個(gè)空間內(nèi),但在由中央元件縱向邊的延長(zhǎng)線所限定的條狀區(qū)之外。
7、根據(jù)上述權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于:舌形衰減元件基本上是矩形的,而且元件的縱向中心線匯聚于一點(diǎn)(C),該點(diǎn)(C)位于遠(yuǎn)離元件的X射線束焦點(diǎn)一側(cè)的扇形角的等分面上,該點(diǎn)相對(duì)于焦點(diǎn)的位置是這樣安置的,以使最外側(cè)的兩個(gè)元件的內(nèi)側(cè)縱向邊的延長(zhǎng)線不與焦點(diǎn)相交。
8、根據(jù)權(quán)利要求1所述的一個(gè)裝置,其特征在于:舌形衰減元件呈楔形,其楔尖指向X射線源,相同組的各個(gè)元件的縱向邊的延長(zhǎng)線在任何情況下都匯聚于一點(diǎn)(C),該點(diǎn)(C)在位于X射線束扇形角的等分面上的X射線焦點(diǎn)(F)的外側(cè)。
9、根據(jù)權(quán)利要求1所述的一個(gè)裝置,其特征在于:舌形衰減元件被分成兩組,一個(gè)組的元件與另一組的元件相互交錯(cuò),而且一組元件的向著X射線焦點(diǎn)的端部被置于離X射線的距離較另一組相應(yīng)端部為小。
10、根據(jù)權(quán)利要求9所述的一個(gè)裝置,其特征在于:衰減元件之一組所包含的舌形衰減元件基本上是矩形的,而另一組包含楔形元件,每一對(duì)相鄰的楔形和矩形元件的相鄰縱向邊基本上彼此平行延伸。
11、根據(jù)權(quán)利要求1所述的一個(gè)裝置,其特征在于:兩套舌形衰減元件中的每一套元件,從X射線源方向看,形成一個(gè)漏斗狀,一套舌形元件被這樣安裝,以使其元件的活動(dòng)端能從一側(cè)擺動(dòng)到X射線束中,而另一套元件被安裝成:其元件的活動(dòng)端能從相反的一側(cè)擺動(dòng)到X射線束中。
12、根據(jù)權(quán)利要求11所述的一個(gè)裝置,其特征在于:一套元件具有面向X射線源的活動(dòng)端,而另一套元件具有背向X射線源方向的活動(dòng)端。
13、根據(jù)權(quán)利要求1所述的一個(gè)裝置,其特征在于:舌形元件被如此安裝,以致元件在靜止位置時(shí),隔板的隙縫基本上是暴露的。
14、根據(jù)權(quán)利要求1所述的一個(gè)裝置,其特征在于:舌形元件在其處于靜止位置時(shí),至少部分地延伸到通過隔板上隙縫的X射線束中。
15、根據(jù)權(quán)利要求1所述的一個(gè)裝置,其特征在于:舌形元件安裝于一個(gè)封裝容器內(nèi),該容器內(nèi)裝有帶有隙縫的隔板,封裝容器的一個(gè)壁上開有一個(gè)關(guān)閉的而能透過X射線的窗口,用來透射通過隔板隙縫的X射線,封裝容器對(duì)著第一個(gè)指定的壁的壁上包括一個(gè)關(guān)閉的能透過X射線的窗口,在該窗口的后面安置有X射線源。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于德瓦德—代爾夫特光學(xué)工業(yè)公司,未經(jīng)德瓦德—代爾夫特光學(xué)工業(yè)公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://m.szxzyx.cn/pat/books/101986000001248/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類





