[其他]具有能在集成電路中集成的霍耳元件的裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 101986000003454 | 申請日: | 1986-05-21 |
| 公開(公告)號: | CN1003480B | 公開(公告)日: | 1989-03-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 波波維克·拉迪沃耶 | 申請(專利權(quán))人: | 蘭迪斯·吉爾楚格股份公司 |
| 主分類號: | 分類號: | ||
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利代理部 | 代理人: | 王以平 |
| 地址: | 瑞士楚格*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 集成電路 集成 元件 裝置 | ||
1、具有一個(gè)可在一個(gè)集成電路中集成的霍爾元件的裝置,該霍爾元件具有兩個(gè)傳感器引線接觸頭和至少兩個(gè)電流引線接觸頭。這些引線接觸頭排列在霍爾元件的表面,其中,至少在霍爾元件〔22〕的有源區(qū)〔7〕和霍爾元件〔22〕的表面之間配置著一個(gè)阻擋層〔11或者12、7〕,該阻擋層從上面覆蓋著霍爾元件〔22〕的有源區(qū)〔7〕,其特征在于:在霍爾元件〔22〕表面上形成一薄層,該薄層是導(dǎo)電類型為P型的材料,它和霍爾元件〔22〕有源區(qū)〔7〕的導(dǎo)電類型正好相反,該薄層具有對環(huán)的連接頭〔R〕的電接觸,而環(huán)連接頭〔R〕形成霍爾元件〔22〕的一個(gè)控制輸入端〔M〕。
2、按照權(quán)利要求1的裝置,其特征在于:阻擋層〔12,7〕是由在霍爾元件〔22〕的有源區(qū)〔7〕與在霍爾元件〔22〕表面上形成的薄層〔12〕之間的交界層形成的,該薄層〔12〕從上面覆蓋著有源區(qū)〔7〕。
3、按照權(quán)利要求1的裝置,其特征在于:霍爾元件〔22〕的輸出端〔S1〕通過一個(gè)調(diào)節(jié)電路〔24、25、26、27〕和霍爾元件〔22〕控制阻擋層〔11或者12、7〕厚度的控制輸入端〔M〕相連接。
4、按照權(quán)利要求3的裝置,其特征在于:調(diào)節(jié)電路〔24、25、26、27〕至少由一個(gè)實(shí)際值整形器〔24〕,一個(gè)額定值發(fā)生器〔25〕和一個(gè)額定值/實(shí)測值一微分器〔26、27〕組成。
5、按照權(quán)利要求4的裝置,其特征在于:實(shí)際值整形器〔24〕是一個(gè)絕對值形成器。
6、按照權(quán)利要求5的裝置,其特征在于:實(shí)際值整形器〔24〕至少由一個(gè)被控制裝置〔28〕控制的轉(zhuǎn)換開關(guān)〔29〕和一個(gè)反相放大器〔30〕組成。
7、按照權(quán)利要求6的裝置,其特征在于:控制裝置〔28〕由一個(gè)比較器組成。
8、按照權(quán)利要求5的裝置,其特征在于:實(shí)際值整形器〔24〕由一個(gè)整流器組成。
9、按照權(quán)利要求4的裝置,其特征在于:額定值發(fā)生器〔25〕是由一個(gè)前置電阻〔R′〕和一個(gè)場效應(yīng)晶體管〔32〕的源-漏區(qū)構(gòu)成的串聯(lián)電路組成。
10、按照權(quán)利要求4的裝置,其特征在于:額定值/實(shí)際值-微分器〔26、27〕至少由一個(gè)差分放大器〔26〕組成。
11、按照權(quán)利要求10的裝置,其特征在于:差分放大器〔26〕具有兩個(gè)實(shí)際值輸入端〔E1、E4〕,其中第一個(gè)〔E1〕與實(shí)際值整形器〔24〕的輸出端相連接,而另一個(gè)〔E4〕與實(shí)際值整形器〔24〕的輸入端相連接。
12、按照權(quán)利要求11的裝置,其特征在于:差分放大器〔26〕是作為反相放大器而布置的,并且和它串聯(lián)了另一個(gè)反相放大器〔27〕。
13、按照權(quán)利要求1的裝置,其中,阻擋層〔11〕是由一個(gè)耗盡區(qū)形成的,該耗盡區(qū)是借助一個(gè)電壓,通過靜電感應(yīng)產(chǎn)生的,該電壓是通過控制門連接頭〔G〕施加到導(dǎo)電的控制層〔10〕上的,控制層〔10〕通過在霍爾元件〔22〕表面上的一層氧化層〔9〕而被隔離了,這樣,控制層〔10〕以及耗盡層從上面覆蓋著霍爾元件〔22〕的有源區(qū)〔7〕;其特征在于:環(huán)〔8〕由霍爾元件〔22〕表面上的薄層構(gòu)成,它至少在側(cè)面圍繞著霍爾元件〔22〕的有源區(qū)〔7〕,并且具有連接頭〔R〕。
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