[其他]受到放射性污染材料的去污過程

在審

• 申請號: 101987000000443
• 申請日: 1987-01-26
• 公開（公告）號: CN87100443B
• 公開（公告）日: 1988-11-16
• 發明（設計）人: 格德弗里德·萊門斯
• 申請（專利權）人: 格德弗里德·萊門斯
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利代理部
• 代理人: 羅英銘;陳季壯

本發明的過程主要包括：依次使受到污染的材料表面與碳酸鈉溶液接觸一段時間，使受到污染的材料表面與稀硝酸溶液接觸，同時加高錳酸鉀，再使受到污染的材料表面與乙二酸（ＣＯＯＨ－ＣＯＯＨ·２ＨＯ）接觸，最后清洗和干燥所述的材料。

本發明涉及的是受到放射性污染的材料去污過程，換句話說，是將放射性物質與受到放射性污染的材料分開和清除的過程。尤其是，按本發明的過程，其目的是除去與放射性物質接觸后，在物體表面上產生的所謂固定污染。

眾所周知，將物體的放射性粒子與受到放射性污染的物體很好地分開是非常困難的。然而，本發明提供了一種新穎的過程，該過程用化學除污法可以從材料表面有效分離和有效除去放射性物質，而不需要復雜和困難的技術。

因此，按本發明的過程主要包括：使受到污染的材料表面依次與碳酸鈉溶液相接觸一段時間;該表面與熱稀硝酸接觸一段時間同時，向其中加入高錳酸鉀;再使受到污染的材料在70℃與乙二酸（COOH-COOH·2H₂O）的溶液相接觸;最后，清洗并干燥如此處理過的物體。

為了更好地說明本發明的特征，下面用一個沒有任何限定性特點的例子，詳細地敘述上述過程。

如上文所述，根據本發明的第一步，是受到污染的材料至少是需要處理的表面與碳酸鈉溶液接觸。然而最好使碳酸鈉首先加熱溶解，用這種方法即可得到強堿溶液。通過這種經過很好加熱的溶液與污染表面接觸即可預先除去硼，這些硼通常出現在污染表面上，并使除去材料上的放射性粒子更加困難。

碳酸鈉的溫度最好至少是80℃。上述進行接觸期間的時間可以根據需要處理的表面的重要性和放射性污染的類型與強度進行選擇，在大多數情況下，5～30分鐘的接觸期即足夠子。

本發明的第二個步驟包括，在第一步完成以后，使受到污染的材料與加入高錳酸鉀的稀硝酸相接觸。但首先由加熱稀硝酸開始;然后，使第一步處理的物體與這種稀硝酸接觸;在這種情況下再將最好是粒狀的高錳酸鉀加到稀硝酸中。為了在稀硝酸和高錳酸鉀之間產生良好的作用，使硝酸加熱到70℃，而在高錳酸鉀加入的期間內，要保持恒定的循環。由本發明的第二個步驟，可以使高錳酸根離子（MnO^-₄）固定到污染的粒子，這一點可由處理過的材料表面顯示黑的顏色得到證明。

加到稀硝酸中高錳酸鉀的量，與在第二步中使要處理的材料保持與有關物質接觸期的長短，可根據要處理材料的大小、表面，以及放射性污染的種類，強度進行選擇。但，以每1000升稀硝酸加入1公斤高錳酸鉀的比例為好。

本發明的第三個步驟是，在第二步已完成之后，使受到污染的材料與乙二酸溶液相接觸。最好是在提高溫度的情況下進行接觸，這樣做的優點是，發生在本步驟期間內的過程的反應速度可大大提高。在本發明過程的第三步期間內，可以實現使高錳酸根離子和放射性污染粒子與需要處理的材料表面分開，如看到，要處理的材料出現了灰白的表面那么乙二酸溶液已足夠強，由此可以說明，表面上沒有留下高錳酸鉀的痕跡。然而，最好使采用的濃度這樣選擇，一方面與乙二酸溶液的量有關，另一方面與第二步所述的混合物，即稀硝酸與高錳酸鉀的混合物有關，以便得到中性的產物。

按本發明的第四步，即最后一步，是清洗和干燥處理過的材料，清洗步驟是用軟水完成的。

但是，如果在清洗前發現，污染仍很嚴重，那么，用增加高錳酸鉀和乙二酸的方法還可以按本發明所述過程的第二步第三步至少重復處理一次。

使受到污染的物體與上述溶液進行良好的接觸最好用浸入法。因此，根據本發明的過程對于較小的工具和器件的去污是非常方便的，例如實驗室中的工具和器件。然而并不排除本發明也適用于大型受到污染的物體，此時物體與各種溶液的接觸可以通過濕蒸法或其它的表面處理法完成。

按照本發明，若有需要，各種殘渣物也可整批地除去。

用正確的混合比混合這些殘渣，實際上可以得到中性（pH＝7）的混合物，其優點在于，可以處理核裝置的循環廢水，而不用擔心會產生損害，妨礙或其它缺點的危險。

很明顯，實現上述過程可有許多變化，而可以采用各種濃度、混合比和接觸時間，但并未脫離本發明的范圍。