[其他]銀鹽平印版材及其工藝方法

在審

• 申請號: 101987000002319
• 申請日: 1987-03-28
• 公開（公告）號: CN1005295B
• 公開（公告）日: 1989-09-27
• 發明（設計）人: 黃頌安;哈惠榮
• 申請（專利權）人: 中國印刷科學技術研究所
• 代理公司: 北京市專利事務所
• 代理人: 許瑞芝;梁良

一種新型平印版材及其工藝方法，是在不同支持體底層上增加了含有無機顏料和硅溶膠的親水耐磨層，改進了涂層型向下擴散轉印工藝，提高了版材的親水、蓄水和耐磨性能，保持了銀圖象有良好的親墨性，用清水潤版也不上臟，印品質量優良，分辨率達１５０線／英寸。該版材大部分工藝過程在明室條件下操作，縮短版材熱固化時間，采用國產原材料，制造工藝簡便，降低了成本，制成的版可長期保存，重復使用，用途廣泛。

本發明屬于銀鹽擴散轉印平印版材及其制造工藝的技術領域。該產品用于平印印刷、其制造工藝供制造平印版材用。

已有技術，一種是銀鹽向上擴散轉印平印版材。其工藝過程是感光乳劑中的鹵化銀向上擴散轉印過程。制成印版時，版面呈黑色、圖象部分呈銀灰色（有光澤）。另一種是銀鹽向下擴散轉印工藝過程，有處理型的和直接涂布型的，均無產品。

采用向上擴散轉印工藝的專利有阿克發-吉伐公司的U.S.3，721，559;三菱制紙株式會社的昭48-30562、昭49-55402、昭52-106902、昭53-21602、昭56-8145和U.S.4，501，811、U.S.4，562，140等。產品有日本三菱制紙株式會社、比利時阿克發-吉伐公司和美國3M公司生產的銀鹽紙基版材。三菱和阿克發-吉伐公司還試生產了銀鹽滌綸片基平印版材樣品。

其工藝路線是（結構如圖1所示）：在支持體①上涂有底層②（帶防光暈層③）暗室涂銀鹽乳劑層④（感光層）暗室涂擴散轉印層⑤（接受核層）→暗室條件下加熱固化3～14天制成產品。

另一種采用向下擴散轉印工藝。有兩種方法：第一種是處理型向下擴散轉印工藝。專利有富士公司的GB1，363，311，U.S.3，901，706、昭50-32648、昭50-333845。將支持體表面局部水解并同時吸附擴散轉印接受核，即親水層與擴散轉印為同一層。例如：有機酸纖維素酯類片基平印版材。

其工藝路線是：（結構如圖2所示）將支持體①的表面水解、形成親水層②、同時吸附接受核→水洗→干燥暗室涂感光乳劑層③。

第二種方法是在支持體含有硝化纖維素的底層上直接涂布擴散轉印層。專利有富士公司的昭50-19506。但這種底層在工藝生產上不安全，且親水性、耐磨性差，該公司專利GB1，363，311否定這種工藝。

其工藝路線是：（結構如圖3所示）在支持體①上涂底層②→涂接受核層（擴散轉印層③）熱固化后涂感光乳劑層④。

已有向上擴散轉印工藝技術，其版材制造工藝，技術水平、設備條件高，而且需在暗室條件下加熱固化3～14天，工藝復雜、成本高，版材價格貴。適用100線/英寸的網點圖象。耐印率3000～5000份/版。制好的印版不能存放，也不能重復使用。印刷時需專用酸性潤版液，有一定的腐蝕性，污染環境。已有的向下擴散轉印工藝技術：其處理型的支持體材料受局限，且這類材料尺寸穩定性較差;其涂層型的親水性、耐磨性較差、制造版材所用的硝化纖維素易燃、易爆、生產不安全。印刷時同樣需用酸性潤版液。鑒于上述已有技術的缺點，故提出本發明。本發明的目的是改進已有的銀鹽擴散轉印平印版材及其制造工藝。提高版材的親水、蓄水和耐磨性，簡化生產工藝降低成本。改進已有技術的缺點，制造一種耐印率高，親水性好，分辨率較高，制造工藝簡便，成本低的涂層型銀鹽向下擴散轉印平印版材。

本發明是涂層型向下擴散轉印平印版材，其工藝過程是感光乳劑中的鹵化銀向下擴散轉印過程。使用陽圖原稿經照相或拷貝曝光，乳劑層受光部分形成潛影，在擴散轉印顯影液中被還原成金屬銀，未受光部分（即圖象部分）的鹵化銀在顯影過程中形成易溶解的銀鉻合物，并很快被溶解擴散到含有物理顯影核（重金屬硫化物）的接受層中，鉻合物中的銀離子迅速被原成金屬銀而留在版材的耐磨親水層表面。用35～40℃溫水洗除乳劑層。版面上就露出與原稿一致的帶金屬明亮光澤的銀圖象，而原來在乳劑層中形成潛影部分與乳劑層一同洗掉。

本發明是在滌綸片基、醋酸纖維素片基、涂塑紙基、金屬板基等不同支持體上，依次涂底層（或帶防光暈層）、親水耐磨層、擴散轉印接受核層和不同感光波長的銀鹽乳劑層。

其工藝路線是：（結構如圖4所示）