[其他]應(yīng)用激光磁壓縮反射的受控核聚變方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 101987000003025 | 申請日: | 1987-08-01 |
| 公開(公告)號: | CN1003893B | 公開(公告)日: | 1989-04-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳達遠 | 申請(專利權(quán))人: | 陳達遠 |
| 主分類號: | 分類號: | ||
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 四川省*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 應(yīng)用 激光 壓縮 反射 受控 聚變 方法 | ||
1、一種應(yīng)用激光、磁壓縮和反射的受控核聚變方法,用一定能量的脈沖激光轟擊固體靶,并對產(chǎn)生的等離子體進行磁壓縮,產(chǎn)生中子源,其特征是。
a.用三束互成一定角度的一百至一千焦耳的脈沖激光轟擊固體靶(熱核材料),獲得高密度(1023-25個離子/cm3)高溫度(數(shù)千萬攝氏度)的等離子體,反應(yīng)時間為10-50ns,
b.同時,應(yīng)用“角向收縮”原理,對等離子體進行磁壓縮,其密度在1017厘米-3以上,溫度在109K以上,持續(xù)時間為10-5秒,
c.應(yīng)用“彎晶體”、ZnS/MgF2或MgCO3、CaCO3、石墨等組成的反射匯聚裝置,把激光、核反應(yīng)的光能和中子匯聚反應(yīng)中心,使反應(yīng)溫度提高到10-100千電子伏特,反應(yīng)速度比單純用激光打靶-磁壓縮的反應(yīng)速度提高一個以上數(shù)量級,
d.用電極輸出高強離子流(0.1-100千電子伏特,0.1-100千安),r-射線、中子流或電能,
e.總體核燃料轉(zhuǎn)換率在1-4%之間。
2、按權(quán)利要求1C所述方法,其特征是可反射激光散射成分的90%,中子成分的28.9%,r-射線成分的40%。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于陳達遠,未經(jīng)陳達遠許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://m.szxzyx.cn/pat/books/101987000003025/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:甲烷熱氯化工藝
- 下一篇:高速強力磨削油及其制備方法
- 同類專利
- 專利分類
- 在線應(yīng)用平臺上應(yīng)用間通信的回調(diào)應(yīng)答方法、應(yīng)用及在線應(yīng)用平臺
- 應(yīng)用使用方法、應(yīng)用使用裝置及相應(yīng)的應(yīng)用終端
- 應(yīng)用管理設(shè)備、應(yīng)用管理系統(tǒng)、以及應(yīng)用管理方法
- 能力應(yīng)用系統(tǒng)及其能力應(yīng)用方法
- 應(yīng)用市場的應(yīng)用搜索方法、系統(tǒng)及應(yīng)用市場
- 使用應(yīng)用的方法和應(yīng)用平臺
- 應(yīng)用安裝方法和應(yīng)用安裝系統(tǒng)
- 使用遠程應(yīng)用進行應(yīng)用安裝
- 應(yīng)用檢測方法及應(yīng)用檢測裝置
- 應(yīng)用調(diào)用方法、應(yīng)用發(fā)布方法及應(yīng)用發(fā)布系統(tǒng)





