[發(fā)明專利]一種真空鍍膜生產(chǎn)線

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310690992.0
• 申請日: 2013-12-16
• 公開（公告）號: CN104018130A
• 公開（公告）日: 2014-09-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 黃國興;孫桂紅;祝海生;黃樂;梁紅;吳永光
• 申請（專利權(quán)）人: 湘潭宏大真空技術(shù)股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 上海精晟知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31253
• 代理人: 馮子玲

1.一種真空鍍膜生產(chǎn)線，其特征在于，包括：一傳送流水線和一鍍膜流水線，鍍膜流水線與傳送流水線連接，傳送流水線傳送基片，鍍膜流水線包括進口腔室、進口過渡腔室、進口緩沖腔室、鍍膜腔室、出口緩沖腔室、出口過渡腔室和出口腔室，所述進口腔室、進口過渡腔室、進口緩沖腔室、鍍膜腔室、出口緩沖腔室、出口過渡腔室和出口腔室依次首尾連接，所述基片通過進口腔室從傳送流水線進入鍍膜流水線，通過出口腔室從鍍膜流水線移出；所述傳送流水線與鍍膜流水線平行設(shè)置。

2.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜生產(chǎn)線，其特征在于：鍍膜腔室中設(shè)有一移動式陰極裝置，所述移動式的陰極裝置的靶材轟擊軌道非固定。

3.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜生產(chǎn)線，其特征在于：所述移動式陰極裝置包括陰極組件和平移組件，所述陰極組件與平移組件固定連接且隨平移組件的運動平動，其中陰極為平面磁控濺射陰極；所述陰極組件與平移組件通過一絕緣件連接。

4.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜生產(chǎn)線，其特征在于：所述平移組件由外至內(nèi)依次為移動件、滾珠絲杠件、安裝件和支撐件，其中移動件分別與絕緣件和滾珠絲杠件中的螺母連接，安裝件與滾珠絲杠件中的固定件連接，且安裝件與支撐件連接。

5.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜生產(chǎn)線，其特征在于：所述鍍膜流水線設(shè)有至少一個傳動機構(gòu)，所述傳動機構(gòu)設(shè)置于鍍膜流水線的各腔室，基片在鍍膜流水線的各腔室內(nèi)通過傳動機構(gòu)運輸。

6.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜生產(chǎn)線，其特征在于：所述鍍膜流水線設(shè)有與各功能腔室數(shù)量匹配的門體結(jié)構(gòu),所述門體結(jié)構(gòu)配置于各功能腔室，包括室門和門框，室門的兩側(cè)均與門框活動連接，各功能腔室配置的門體結(jié)構(gòu)尺寸及配置各功能腔室的方式均一致。

7.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜生產(chǎn)線，其特征在于：所述鍍膜流水線中包括至少一個管道耦合組件，所述管道耦合組件包括上耦合件和下耦合件，上下耦合件活動連接并密封，上下耦合件分別固定連接同一管道；上下耦合件耦合密封時，管道連通；上下耦合件分離時，管道斷開。

8.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜生產(chǎn)線，其特征在于：所述真空鍍膜生產(chǎn)線包括至少一個裝片裝置，所述裝片裝置包括一固定組件和一調(diào)節(jié)組件，調(diào)節(jié)組件安裝在固定組件上，通過調(diào)節(jié)調(diào)節(jié)組件的位置安裝不同規(guī)格的基片。

9.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜生產(chǎn)線，其特征在于：所述鍍膜流水線包括至少兩個旋轉(zhuǎn)門閥，所述旋轉(zhuǎn)門閥安裝在進口腔室和出口腔室與傳送流水線接觸的腔壁上，旋轉(zhuǎn)門閥包括一門閥組件和一門閥驅(qū)動組件，門閥驅(qū)動組件與門閥組件一端連接，通過門閥驅(qū)動組件驅(qū)動門閥組件旋轉(zhuǎn)。

10.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜生產(chǎn)線，其特征在于：所述傳送流水線包括至少一個傳送裝置所述傳送裝置包括軌道和至少一個傳送車，軌道帶電，傳送車包括至少兩個電極引入件，電極引入件與軌道電連接驅(qū)動傳送車在軌道上運行；裝片裝置安裝在傳送裝置上。

11.如權(quán)利要求2所述的真空鍍膜生產(chǎn)線，其特征在于：所述真空鍍膜生產(chǎn)線還設(shè)有至少一基片識別組件，該基片識別組件安裝在裝片裝置和傳送裝置上，該基片識別組件包括：至少n個識別孔(n≥1)和一識別器，識別孔設(shè)置在裝片裝置上，識別器安裝在傳送裝置上，識別器進一步包括一紅外線發(fā)射單元、一紅外線接收單元和一轉(zhuǎn)換單元，轉(zhuǎn)換單元與紅外線接收單元連接，紅外線發(fā)射單元與識別孔的高度一致。

12.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜生產(chǎn)線，其特征在于：該真空鍍膜生產(chǎn)線還設(shè)置有至少兩個旋轉(zhuǎn)平臺機構(gòu)，分別位于該真空鍍膜生產(chǎn)線的兩側(cè)，用于傳送流水線與鍍膜流水線間的基片中轉(zhuǎn)傳遞機構(gòu)，連接傳送流水線和鍍膜流水線。

13.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜生產(chǎn)線，其特征在于：所述真空鍍膜生產(chǎn)線還包括一監(jiān)控系統(tǒng)，該監(jiān)控系統(tǒng)包括顯示模塊、處理模塊、數(shù)據(jù)存儲模塊、通訊接口模塊、數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換模塊、以及分布在生產(chǎn)線上的各監(jiān)控部件；

所述顯示模塊連接所述處理模塊，所述處理模塊連接所述數(shù)據(jù)存儲模塊，所述數(shù)據(jù)存儲模塊通過所述通訊接口模塊與所述數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換模塊連接；所述數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換模塊通過現(xiàn)場總線，與分布在生產(chǎn)線上的各監(jiān)控部件通信；

所述數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換模塊通過所述現(xiàn)場總線對所屬監(jiān)控部件中的數(shù)據(jù)進行采集，并進行格式轉(zhuǎn)化，以形成統(tǒng)一的數(shù)據(jù)并通過所述通訊接口模塊發(fā)送至所述數(shù)據(jù)存儲模塊；所述數(shù)據(jù)存儲模塊用于存儲傳送來的數(shù)據(jù)；所述處理模塊讀取所述數(shù)據(jù)存儲模塊中的數(shù)據(jù)并處理，然后發(fā)送至所述顯示模塊顯示。