[發明專利]一種拋光復合機床及拋光方法

有效

• 申請號: 201610306546.9
• 申請日: 2016-05-11
• 公開（公告）號: CN105904311B
• 公開（公告）日: 2018-01-12
• 發明（設計）人: 張連新;高浪;吉方;王寶瑞;柯瑞;吳祉群;藍河;周銘;王亞軍;樊煒
• 申請（專利權）人: 中國工程物理研究院機械制造工藝研究所
• 主分類號: B24B13/00
• 分類號: B24B13/00;B24B57/02;B24C3/32;B24C5/02;B24C9/00
• 代理公司: 中國工程物理研究院專利中心51210
• 代理人: 翟長明,韓志英

1.一種拋光復合機床，其特征在于：所述的拋光復合機床包括運動平臺（1）、循環系統（5）、磁流變拋光裝置、射流拋光裝置和控制器（6），光學元件（11）安裝在所述的運動平臺（1）上，在運動平臺（1）的帶動下，光學元件（11）在水平面上移動，磁流變拋光裝置或射流拋光裝置在控制器（6）的控制下對光學元件（11）的表面拋光，循環系統（5）為磁流變拋光裝置循環提供拋光液A，為射流拋光裝置循環提供拋光液B或水；所述的控制器控制運動平臺（1）的運動和磁流變循環系統、射流循環系統的工作順序；

所述的循環系統（5）包括磁流變循環系統和射流循環系統；所述的磁流變循環系統的拋光液A從磁流變儲液罐（15）流出經磁流變回路（17）到達磁流變拋光頭（3）拋光光學元件（11），經磁流變拋光頭（3）回收至磁流變儲液罐（15）；所述的射流循環系統的拋光液B從射流儲液罐（16）流出經射流回路（18）到達射流噴嘴（4）拋光光學元件（11），經回收罩（12）回收至射流儲液罐（16）；所述的射流循環系統的水從清水池（13）流出經射流回路（18）到達射流噴嘴（4）清洗光學元件（11），經回收罩（12）回收至廢液池（14）。

2.根據權利要求1所述的拋光復合機床，其特征在于，所述的磁流變拋光裝置和射流拋光裝置分別固定在Z1軸（9）和Z2軸（10）上，在控制器（6）的控制下沿Z向上下運動，分別移動至拋光位置。

3.根據權利要求1所述的拋光復合機床，其特征在于，射流拋光裝置固定在磁流變拋光裝置上的支撐橫梁（31）上，磁流變拋光裝置和射流拋光裝置分別固定在Z1軸（9）和Z2軸（10）上，磁流變拋光裝置帶動射流拋光裝置沿Z1軸（9）方向運動，射流拋光裝置獨立沿Z2軸（10）方向和支撐橫梁（31）的水平方向運動，磁流變拋光裝置和射流拋光裝置在控制器（6）的控制下移動至拋光位置。

4.根據權利要求1所述的拋光復合機床，其特征在于，所述的回收罩（12）的口徑上大下小，拋光液B或水沿壁面自然流下。

5.根據權利要求1所述的拋光復合機床，其特征在于，所述的運動平臺（1）包括X軸（7）、Y軸（8）和旋轉軸，光學元件（11）在運動平臺（1）的水平面上進行X、Y方向平移和繞Z向旋轉運動。

6.一種拋光復合機床的多級拋光方法，其特征在于，包括以下步驟：

6a.控制器（6）的閥Ⅰ（20）接通磁流變儲液罐（15），閥Ⅱ（21）接通磁流變噴嘴（22），閥Ⅲ（25）接通磁流變儲液罐（15）；

6b.控制器（6）的閥Ⅳ（27）接通射流儲液罐（16），閥Ⅴ（28）接通射流噴嘴（4），閥Ⅵ（30）接通射流儲液罐（16）；

6c.控制器（6）控制運動平臺（1）將光學元件（11）移動至拋光位置；

6d.控制器（6）控制磁流變拋光裝置移動至拋光位置；

6e.控制器（6）控制磁流變拋光頭（3）轉動，打開傳送泵Ⅰ（19），將拋光液A傳送至磁流變拋光頭（3）上，對光學元件（11）拋光；

6f.控制器（6）移開磁流變拋光裝置，控制射流拋光裝置移動至拋光位置；

6g.控制器（6）打開傳送泵Ⅱ（26），將拋光液B傳送至射流噴嘴（4）上，對光學元件（11）拋光；

6h.控制器（6）移開射流拋光裝置；

6i.控制器（6）控制閥Ⅰ（20）接通清水池（13），閥Ⅱ（21）接通閥Ⅲ（25），閥Ⅲ（25）接通廢液池（14），閥Ⅳ（27）接通清水池（13），閥Ⅴ（28）接通閥Ⅵ（30）、閥Ⅵ（30）接通廢液池（14），打開傳送泵Ⅰ（19）和傳送泵Ⅱ（26），用水清洗磁流變回路（17）中殘留的拋光液A和射流回路（18）中殘留的拋光液B；

6j.拋光結束，控制器（6）關閉機床。