[發明專利]一種耐腐蝕透射像傳感器

有效

• 申請號: 201711093450.X
• 申請日: 2017-11-08
• 公開（公告）號: CN107621758B
• 公開（公告）日: 2020-04-24
• 發明（設計）人: 顧佳靈;莫少文
• 申請（專利權）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海申新律師事務所 31272
• 代理人: 俞滌炯

本發明公開了一種耐腐蝕的透射像傳感器，設置在浸沒式光刻機的工作臺上，所述透射像傳感器的表面設置有一第一隔離涂層，所述第一隔離涂層連接一負電壓。采用上述技術方案可以使得涂層帶負電，從而有效預防了涂層被電化學腐蝕，減少正離子的游離，提高了傳感器感應的準確性。

技術領域

本發明涉及半導體制造領域，尤其涉及一種耐腐蝕透射像傳感器及一種具有耐腐蝕透射像傳感器的浸沒式光刻機。

背景技術

半導體設計制造中的光刻工藝時通過光源和鏡頭透過中間介質對影響光刻膠實現對晶圓的表面刻蝕。浸沒式光刻機較傳統的光刻技術差別在于中間介質采用液體，鏡頭與光刻膠直接與液體接觸。光線在液體介質中波長更短可提高光刻的分辨率。浸沒式光刻機的光刻機臺上設置有透射像傳感器，由于透射像傳感器在光刻機臺上的位置時確定的，可以確定當前鏡頭相對于光刻機臺的表面的位置。

現有的浸沒式光刻機的液體介質通常會采用水，因此，透射像傳感器表面的涂層的正離子在水的作用下慢慢地移動到鏡頭與水介質接觸的的罩子上，尤其地，對于金屬的涂層會形成了電化學腐蝕。隨著電化學腐蝕慢慢變得嚴重，涂層的厚度和物理屬性發生改變，造成了傳感器接收到的光信號異常，從而影響了在光刻過程中量測和設備定位的準確性，造成了光刻工藝的產品的良率下降。

發明內容

針對現有技術中在浸沒式光刻機中存在的上述問題，現提供一種耐腐蝕的透射像傳感器及一種具有耐腐蝕透射像傳感器的浸沒式光刻機。

具體技術方案如下：

一種耐腐蝕的透射像傳感器，設置在浸沒式光刻機的工作臺上，所述透射像傳感器的表面設置有一第一隔離涂層，所述第一隔離涂層連接一負電壓。

優選的，所述負電壓為一直流電。

優選的，所述負電壓的電壓值為-1000mV。

優選的，所述第一隔離涂層為金屬隔離涂層。

優選的，所述第一隔離涂層上覆蓋有一第二隔離涂層，所述第二隔離涂層采用石墨烯薄膜涂層。

優選的，一種具有耐腐蝕透射像傳感器的浸沒式光刻機，所述浸沒式光刻機的工作臺上設置有至少一個透射像傳感器，所述透射像傳感器的表面上設置有一第一隔離涂層，所述第一隔離涂層連接一負電壓。

優選的，所述負電壓為一直流電。

優選的，所述負電壓的電壓值為-1000mV。

優選的，所述第一隔離涂層為金屬隔離涂層。

優選的，所述第一隔離涂層上覆蓋有第二隔離涂層，所述第二隔離涂層采用石墨烯薄膜涂層。

上述技術方案具有如下優點或有益效果：

通過向透射像傳感器的第一隔離涂層輸入負電壓，可以使得第一隔離涂層帶負電，從而有效預防了第一隔離涂層被電化學腐蝕，減少正離子的游離，防止所述透射像傳感器接收到的光信號異常，從而導致了量測的準確性，影響了產品的良率。

附圖說明

參考所附附圖，以更加充分的描述本發明的實施例。然而，所附附圖僅用于說明和闡述，并不構成對本發明范圍的限制。

圖1為本發明一種具有耐腐蝕透射像傳感器的浸沒式光刻機的實施例的結構示意圖；

圖2為本發明一種耐腐蝕的透射像傳感器的結構示意圖。

1、透射像傳感器；2、鏡頭的罩子；3、水介質；4、第二隔離涂層；5、第一隔離涂層。

具體實施方式