[實用新型]一種晶片清洗干燥機

有效

• 申請號: 201920104493.1
• 申請日: 2019-01-22
• 公開（公告）號: CN209998007U
• 公開（公告）日: 2020-01-31
• 發明（設計）人: 葛林五;李杰;丁高生;陳景韶;葛林新
• 申請（專利權）人: 上海提牛機電設備有限公司
• 主分類號: B08B3/04
• 分類號: B08B3/04;B08B3/10;B08B13/00;F26B21/00;F26B3/04
• 代理公司: 31105 上海智力專利商標事務所(普通合伙)
• 代理人: 周濤

1.一種晶片清洗干燥機，其特征在于，該干燥機包括：

上箱體（1），所述上箱體（1）中設置有干燥組件（11）；

中箱體（2），所述中箱體（2）中設置有用來承置晶片（5）的花籃組件（21）；以及

下箱體（3），所述上箱體（1）、中箱體（2）與下箱體（3）能夠一起構成密封整體，所述下箱體（3）中設置有用來向外部排出氣流的第一抽氣管（31）、用來向所述下箱體（3）中供水的進水管（32）和用來向外部排出水流的第一出水管（33）。

2.根據權利要求1所述的晶片清洗干燥機，其特征在于，所述干燥機還包括：移動機構（4），能夠夾持所述晶片（5）并將所述晶片（5）上下移動，使得所述晶片（5）能夠在所述中箱體（2）或者下箱體（3）中變換位置。

3.根據權利要求2所述的晶片清洗干燥機，其特征在于，所述中箱體（2）上設置有移動輪，所述中箱體（2）和上箱體（1）能夠整體側移使得所述下箱體（3）的頂部敞開或者閉合。

4.根據權利要求3所述的晶片清洗干燥機，其特征在于，所述干燥機還包括：

側箱體（6），所述側箱體（6）連接在所述下箱體（3）的頂部一側，所述下箱體（3）的一側頂部設置有溢流口（61），所述溢流口（61）使得所述側箱體（6）與所述下箱體（3）內部連通，所述側箱體（6）上設置有第二出水管（62），所述第二出水管（62）用來將所述下箱體（3）中溢流的液體導出。

5.根據權利要求4所述的晶片清洗干燥機，其特征在于，所述側箱體（6）上還連通有第二抽氣管（63），用來抽吸所述側箱體（6）內部的氣流。

6.根據權利要求1所述的晶片清洗干燥機，其特征在于，所述下箱體（3）的底部具有預定斜角，所述第一出水管（33）設置在所述下箱體（3）的底部，所述第一抽氣管（31）的高度大于所述第一出水管（33），所述進水管（32）設置在所述第一出水管（33）和第一抽氣管（31）之間。

7.根據權利要求1-6中任一所述的晶片清洗干燥機，其特征在于，所述干燥組件（11）包括：軸管（111），所述軸管（111）上均勻布設有若干第一出氣孔，所述軸管（111）的兩端均連通有接口（112）。

8.根據權利要求7所述的晶片清洗干燥機，其特征在于，所述花籃組件（21）包括一組相對設置且帶有平行凹槽的側板（211），兩兩相對的所述凹槽之間能夠放置所述晶片（5），所述花籃組件（21）還包括通氣管道（212），所述通氣管道（212）設置在所述側板（211）的中部位置，所述通氣管道（212）上開設有若干第二出氣孔。