[發(fā)明專利]根據(jù)預(yù)定周期性時(shí)隙組的雙極組織消融

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110344004.1
• 申請(qǐng)日: 2021-03-30
• 公開（公告）號(hào): CN113893025A
• 公開（公告）日: 2022-01-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: A·C·阿爾特曼;A·戈瓦里;E·奧澤里
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 伯恩森斯韋伯斯特（以色列）有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): A61B18/12
• 分類號(hào): A61B18/12
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 付曼;姜冰

本發(fā)明題為“根據(jù)預(yù)定周期性時(shí)隙組的雙極組織消融”。一種用于施加雙極消融脈沖的方法，該方法包括將導(dǎo)管的多個(gè)電極定位成與器官的組織接觸。使用多個(gè)電極根據(jù)包括周期性時(shí)隙組的預(yù)定模式來消融組織。時(shí)隙中的每個(gè)時(shí)隙限定：(i)電極對(duì)(EP)，(ii)由EP施加到組織的一個(gè)或多個(gè)雙極消融脈沖(BAP)的波形，以及(iii)時(shí)隙的持續(xù)時(shí)間。時(shí)隙被順序地施加，并且該模式還包括至少一個(gè)為空的時(shí)隙。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明總體涉及醫(yī)療裝置，并且具體地涉及用于雙極組織消融的方法和系統(tǒng)。

背景技術(shù)

用于通過施加不可逆電穿孔(IRE)脈沖來消融心臟組織的擴(kuò)展區(qū)域的各種技術(shù)是本領(lǐng)域已知的。

例如，美國專利10470822描述了一種用于估計(jì)通過限定治療區(qū)域的多個(gè)電極施加治療能量的裝置的三維治療量的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括存儲(chǔ)器、顯示裝置、耦合至存儲(chǔ)器和顯示裝置的處理器、以及存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中并可由處理器執(zhí)行的治療計(jì)劃模塊。

美國專利申請(qǐng)公開2019/0336207描述了一種包括脈沖波形發(fā)生器和耦合至脈沖波形發(fā)生器的消融裝置的系統(tǒng)。消融裝置包括至少一個(gè)電極，該至少一個(gè)電極被配置用于在使用期間將消融脈沖輸送至組織。脈沖波形發(fā)生器被配置成將電壓脈沖以脈沖波形的形式遞送到消融裝置。脈沖波形可包括多個(gè)層級(jí)，并且可激活多組電極，使得它們的脈沖輸送彼此交錯(cuò)。

發(fā)明內(nèi)容

本文所述的本發(fā)明的實(shí)施方案提供了一種用于施加雙極消融脈沖的方法，該方法包括將導(dǎo)管的多個(gè)電極定位成與器官的組織接觸。使用多個(gè)電極根據(jù)包括周期性時(shí)隙組的預(yù)定模式來消融組織。時(shí)隙中的每個(gè)時(shí)隙限定：(i)電極對(duì)(EP)，(ii)由EP施加到組織的一個(gè)或多個(gè)雙極消融脈沖(BAP)的波形，以及(iii)時(shí)隙的持續(xù)時(shí)間。時(shí)隙被順序地施加，并且該模式還包括至少一個(gè)為空的時(shí)隙。

在一些實(shí)施方案中，第一EP的第一電極定位在第二EP的第二電極和第三電極之間。在其他實(shí)施方案中，時(shí)隙中的每個(gè)時(shí)隙包括在一個(gè)或多個(gè)BAP之前或之后調(diào)度的時(shí)間間隙。在其他實(shí)施方案中，BAP包括不可逆電穿孔(IRE)BAP。

在一個(gè)實(shí)施方案中，時(shí)隙的EP具有相同的電極間距離。在另一個(gè)實(shí)施方案中，預(yù)定模式的第一時(shí)隙的第一EP包括第一電極和第二電極，并且預(yù)定模式的第二時(shí)隙的第二EP包括第一電極和第三電極。

在一些實(shí)施方案中，預(yù)定模式包括定位在第一時(shí)隙和第二時(shí)隙之間的至少一個(gè)時(shí)隙。在其他實(shí)施方案中，定位導(dǎo)管包括定位套索導(dǎo)管。

根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方案，另外提供了一種包括導(dǎo)管、脈沖發(fā)生器和處理器的系統(tǒng)。導(dǎo)管包括被配置成與器官的組織接觸的多個(gè)電極。脈沖發(fā)生器被配置成生成一個(gè)或多個(gè)雙極消融脈沖(BAP)。處理器被配置成使用多個(gè)電極根據(jù)包括周期性時(shí)隙組的預(yù)定模式來消融組織，該時(shí)隙組被順序地施加到組織。時(shí)隙中的每個(gè)時(shí)隙限定：(i)選自多個(gè)電極的電極對(duì)(EP)，(ii)由EP施加到組織的一個(gè)或多個(gè)BAP的波形，以及(iii)時(shí)隙的持續(xù)時(shí)間，并且模式還包括至少一個(gè)為空的時(shí)隙。

附圖說明

結(jié)合附圖，通過以下對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方案的詳細(xì)描述，將更全面地理解本發(fā)明，其中：

圖1為根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方案的基于導(dǎo)管的定位-跟蹤和不可逆電穿孔(IRE)消融系統(tǒng)的示意性圖解；

圖2為根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方案的具有多個(gè)電極的IRE導(dǎo)管的末端節(jié)段、以及用于將IRE脈沖施加到其選定電極的構(gòu)造的示意性圖解；并且

圖3為示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方案的用于將雙極IRE消融脈沖施加至組織的方法的流程圖。

具體實(shí)施方式

概述