[其他]測量高反射率的方法和裝置

無效

• 申請號: 85101719
• 申請日: 1985-04-01
• 公開（公告）號: CN85101719A
• 公開（公告）日: 1986-08-13
• 發明（設計）人: 王占青;陳奮飛;周秀良
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械研究所
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02
• 代理公司: 中國科學院長春專利事務所
• 代理人: 劉樹清

1、一種測量高反射率的方法，是多次反射測量的方法，其特征在于多次反射測量方法采用對諧振腔多次反射結構α。

2、按權利要求1所述的測量高反射率的方法，其特征在于：將對稱諧振腔多次反射結構置于一個可定位轉動180°的平面上，反射率是由光電信號E₁、E₂、E₃和E₄，通過公式R＝4NE2 E 4 / E 1 E 2 ]]>求得。

3、一種測量高反射率的裝置，包括平面鏡和球面鏡，其特征在于測量高反射率的裝置是由平面反射鏡〔5〕、球面反射鏡〔4〕以及放置在定位轉動180°的園盤〔6〕上的二個相同曲率半徑為γ的球面反射鏡〔1〕和〔3〕形成的對稱諧振腔組成;通過定位轉動園盤〔6〕的旋轉軸線并與對稱諧振腔光軸垂直放置高反射率樣品〔2〕。

4、按權利要求3所述的測量高反射率的裝置，其特征在于：在定位轉動園盤〔6〕上，取直徑為L的兩端點，相對共軸放置球面反射鏡〔1〕和〔3〕，靠球面反射鏡中心開有P×q長孔。