[其他]高磁導率耐磨合金及其生產方法無效
| 申請號: | 85106170 | 申請日: | 1985-08-14 |
| 公開(公告)號: | CN85106170A | 公開(公告)日: | 1986-08-20 |
| 發明(設計)人: | 增本量;村上雄悅 | 申請(專利權)人: | 財團法人電氣磁氣材料研究所 |
| 主分類號: | C22C19/03 | 分類號: | C22C19/03;C22C19/05 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人: | 全菁,吳大建 |
| 地址: | 日本宮城縣仙*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 磁導率 耐磨 合金 及其 生產 方法 | ||
1、一種高磁導率的耐磨合金,其特征在于,它包含(按重量)約60-90%Ni、約0.5-14%Nb和帶有不可避免雜質的Fe剩余部分,并且具有至少約3,000(在1千赫)的有效磁導率、至少約4,000高斯的飽和磁通量密度和{110}<112>+{311}<112>再結晶結構。
2、一種高磁導率的耐磨合金,其特征在于,它包含(按重量)約60-90%Ni、約0.5-14%Nb的主要成分,約0.01-30%至少一種次要成分,該次要成分從下列各組元素中選擇:各自不超過約7%的Cr、Mo、Ge和Au,各自不超過約10%的Co和V,不超過約15%的W,不超過約20%的Ta,各自不超過約25%的Cu和Mn,各自不超過約5%的Al、Si、Ti、Zr、Hf、Sn、Sb、Ga、In、Tl、Zn、Cd、稀土元素和鉑系元素,各自不超過3%的Be、Ag、Sr和Ba,各自不超過約1%的B和P,不超過約0.1%的S;以及作為主要成分的帶有微量不可避免雜質的Fe剩余部分,并且具有至少約3,000(在1千赫)的有效磁導率,至少約4,000高斯的飽和磁通量密度和{110}〈112〉+{311}〈112〉再結晶結構。
3、一種生產高磁導率的耐磨合金的方法,其特征在于,它以至少約50%的加工率,冷加工包含以下元素(按重量)的合金:約60-90%Ni、約0.5-14%Nb和帶有微量不可避免雜質的Fe剩余部分,在至少約900℃和低于合金熔點的溫度,加熱冷加工了的合金,隨后以約100℃/秒-1℃/小時(取決于合金的成分)的冷卻速率,將加熱了的合金從高于合金有序-無序轉變點溫度冷卻到室溫,借此獲得具有至少約3,000(在1千赫)的有效磁導率、至少約4,000高斯的飽和磁通量密度和{110}〈112〉+{311}〈112〉再結晶結構的合金。
4、一種生產高磁導率的耐磨合金的方法,其特征在于,它以至少約50% 的加工率,冷加工含有以下元素(按重量)的合金:約60-90%Ni、約0.5-14%Nb和帶有微量不可避免雜質的Fe剩余部分,在至少約900℃和低于合金熔點的溫度,加熱冷加工了的合金,隨后以約100℃/秒-1℃/小時(取決于合金的成分)的合適冷卻速率,從高于合金有序-無序轉變點溫度,冷卻加熱了的合金,在1分-100小時(取決于合金成分)內,將冷卻了的合金再加熱到低于合金有序-無序轉變點的溫度,冷卻再加熱了的合金,借此獲得具有至少約3,000(在1千赫)的有效磁導率、至少約4,000高斯的飽和磁通量密度和{110}〈112〉+{311}〈112〉再結晶結構的合金。
5、一種生產高磁導率耐磨合金的方法,其特征在于,它以至少約50%的加工率,冷加工含有以下元素(按重量)的合金:約60-90%Ni和約0.5-14%Nb的主要成分;約0.01-30%至少一種次要成分,該次要成分從下列各組元素中選擇:各自不超過約7%的Cr、Mo、Ge和Au,各自不超過約10%的Co和V,不超過約15%的W,不超過約20%的Ta,各自不超過約25%的Cu和Mn,各自不超過約5%的Al、Si、Ti、Zr、Hf、Sn、Sb、Ga、In、Tl、Zn、Cd、稀土元素和鉑系元素,各自不超過3%的Be、Ag、Sr和Ba,各自不超過約1%的B和P,和不超過約0.1%的S;以及作為主要成分的帶有微量不可避免雜質的Fe剩余部分,在不低于900℃和低于合金熔點溫度,加熱冷加工了的合金,隨后以約100℃/秒-1℃/小時(取決于合金成分)的適當冷卻速率,將加熱了的合金從高于合金有序-無序轉變點溫度冷卻到室溫,借此獲得具有至少約3,000(在1千赫)的有效磁導率,至少約4,000高斯的飽和磁通量密度和{110}〈112〉+{311}〈112〉再結晶結構的合金。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于財團法人電氣磁氣材料研究所,未經財團法人電氣磁氣材料研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://m.szxzyx.cn/pat/books/85106170/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:向使用地點定量輸送粒狀材料的裝置
- 下一篇:高反差正性光致抗蝕劑顯影的方法





