[其他]一種氯化亞錫的制備方法

無效

• 申請號: 85106332
• 申請日: 1985-08-20
• 公開（公告）號: CN85106332B
• 公開（公告）日: 1986-12-17
• 發明（設計）人: 章增達;楊家福;吳鐘德;謝官華
• 申請（專利權）人: 個舊市化工一廠
• 主分類號: C01G19/06
• 分類號: C01G19/06
• 代理公司: 云南省專利事務所
• 代理人: 張怡

本發明涉及到用金屬錫、氯氣和鹽酸制備高純度的氯化亞錫的方法。

屬于氯化亞錫的制備工藝。

傳統的氯化亞錫的制造方法，是用金屬錫與鹽酸直接反應，然后蒸發濃縮，分離出氯化亞錫二水合物（SnCl₂·2H₂O）結晶。在這種工藝中，鹽酸與金屬錫的反應速度極慢，使得反應時間較長，產品氯化亞錫的濃度低、蒸發量大、能耗較高，而且，由于大量高濃度鹽酸的存在，會產生嚴重的腐蝕，大量鹽酸的加入，還帶入了一定量的雜質鐵離子，常使產品SnCl₂·2H₂O呈黃綠色，影響外觀。

也有人提出在上述工藝中采用Pt（鉑金）催化，加快其反應速度，腐蝕性也有所減少，但Pt是貴金屬，價格昂貴，而且來源往往受到限制，為其工業化生產帶來了困難。腐蝕性雖說有所減少，但仍然存在。用此種方法生產氯化亞錫，工藝過程中還伴隨著氫氣的生產，有發生爆炸的危險，再者，此工藝無法除去由金屬錫所帶入的砷、銻、鉍、鉛、鐵、銅等雜質，若要將產品SnCl₂·2H₂O中雜質的含量控制在較低范圍，只有采用純度很高的金屬錫為原料，如Sn含量高于99.99%的高純度錫，這樣就會使產品的成本大為提高，否則，產品的質量將難以達到較高純度的要求。

日本專利特許公報昭55-45496揭示了用金屬錫、氯化錫及水作為反應原料，按金屬錫1克分子，氯化錫1克分子和水4至7克分子的比例進行反應，將發生反應的混合物保持在35℃至250℃的溫度，直至金屬錫至少被消耗95%，而且生成了氯化亞錫的二水合物（SnCl₂·2H₂O）。也可用金屬錫1克分子與氯化錫五水合物（SnCl₄·5H₂O）1克分子進行反應，來制備SnCl₂·2H₂O。此件專利中沒有提及如何對產品SnCl₂·2H₂O進行提純處理，也沒有提及如何除去原料中帶入的有害雜質。產品SnCl₂·2H₂O中雜質的含量完全由稀釋參加反應原料中的雜質來控制，但這種僅采用稀釋來控制產品中雜質含量的方法是有所限制的，要獲得高純度的產品，就必須采用相應較高純度的原料，正如日本特許公報昭55-45496中所述的采用高純度的氯化錫和電解法制得的錫或是海峽產的錫（Sn含量均大于99.89%），即便是這樣，所制得的產品SnCl₂·2H₂O仍不能在食品工業中使用。

本發明所提出的一種新的氯化亞錫的制備方法，旨在用對其雜質含量不苛求的原料：金屬錫、氯氣和鹽酸，來制備高純度的氯化亞錫二水合物。

本發明所述的方法，是將金屬錫、鹽酸和水加入反應容器中，再通入氯氣，使之按下式進行反應：

Sn+2Cl₂→SnCl₄ （1）

上述反應是放熱反應，在常溫下即可發生，但反應速度較慢，為了加快反應速度，縮短生產周期，可由外部供熱，當反應物的溫度達到60℃時，反應就能容易地進行。由于反應（1）所生成的產物為氯化錫，氯化錫的沸氣在常壓下是114℃，所以反應溫度的上限應有所限制，否則，將會因氯化錫的氣化或揮發而白白耗費原料，使收率降低。本發明的實施溫度范圍是30～105℃，理想的溫度范圍是60～100℃，最佳的溫度范圍是80～90℃。

反應（1）是氧化反應，鹽酸的存在，造成酸性環境，以防止錫的堿式鹽的生成。鹽酸可采用工業鹽酸，以比重為1.19的較為理想。由于上述反應是多相反應，反應所得產物ＳnCl₄進入液相，所以加入的原料并不要求嚴格的克分子比，而ＳnCl₄的生成則是按照反應式（1)的克分子比進行的。水的加入量將涉及到液相的濃度，考慮到后處理等因素，一般為金屬錫加入量的2倍（重量）左右。

參加反應的原料金屬錫，由于并不苛求其雜質含量，可用火法得到的錫或是濕法得到的海綿錫，參加反應時，金屬錫做成錫花將使反應容易進行，由于金屬錫中含有砷、銻、鉍、鉛、鐵、銅等雜質，在上述反應條件下，這些雜質也可于Cl₂發生反應。按以下反應式進行：

2As+3Cl₂→2AsCl₃　(2)