[其他]半導(dǎo)體器件的制造方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 85106463 | 申請(qǐng)日: | 1985-08-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN85106463B | 公開(kāi)(公告)日: | 1987-07-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 木山精一;今井秀記 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 三洋電機(jī)株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L31/18 | 分類(lèi)號(hào): | H01L31/18;H01L31/06 |
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利代理部 | 代理人: | 劉暉 |
| 地址: | 日本大阪府守*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體器件 制造 方法 | ||
1、一種制造半導(dǎo)體器件的方法,包括下列步驟:
準(zhǔn)備一個(gè)基片;
在上述基片一主表面?zhèn)壬线B續(xù)地形成一層半導(dǎo)體薄膜;
用能量束照射上述半導(dǎo)體薄膜,并去掉被照射部位上的半導(dǎo)體薄膜,從而把上述半導(dǎo)體薄膜分隔成若干個(gè)區(qū)域;其特征在于:上述基片為透光基片,上述能量束為激光束,此激光束是從上述基片的另一主表面?zhèn)日丈涞摹?/p>
2、按照權(quán)利要求1所述的制造方法,其特征在于:在形成上述半導(dǎo)體薄膜之前,有一個(gè)在所述透光基片一主表面?zhèn)刃纬赏该麟姌O薄膜并將其分隔成許多區(qū)域的步驟,半導(dǎo)體薄膜在上述透光基片的一主表面?zhèn)壬线B續(xù)延伸,并覆蓋住在形成上述半導(dǎo)體薄膜前所形成的上述各個(gè)透明薄膜電極。
3、按照權(quán)利要求2所述的制造方法,其特征在于:在分隔半導(dǎo)體薄膜的步驟之后,有一個(gè)形成背面電極薄膜的步驟,該薄膜連續(xù)地覆蓋住各個(gè)被分隔了的半導(dǎo)體薄膜部位,以及一個(gè)用激光束照射上述背面電極薄膜并去掉該部位上的背面電極薄膜,從而將上述背面電極薄膜分隔成各個(gè)區(qū)域的步驟,在上述分隔背面電極薄膜的步驟中,所用激光束是從上述透光基片的另一主表面?zhèn)日丈涞摹?/p>
4、按照權(quán)利要求2所述的制造方法,其特征在于:在形成上述半導(dǎo)體薄膜和上述透明薄膜電極的步驟之間,有一個(gè)在上述各透明薄膜電極將要外露的地方有選擇地形成一絕緣絕熱層的步驟,而上述半導(dǎo)體薄膜形成在上述透光基片的一主表面?zhèn)?,并覆蓋住上述透明電極薄膜和上述絕緣絕熱層。
5、一種制造半導(dǎo)體器件的方法,包括下列步驟:
準(zhǔn)備一透光基片;
在上述透光基片的一主表面?zhèn)刃纬赏该麟姌O薄膜并將其分隔成各個(gè)區(qū)域;
在上述透光基片的一主表面?zhèn)冗B續(xù)形成一層半導(dǎo)體薄膜,覆蓋住上述各個(gè)區(qū)域的透明薄膜電極;
在形成上述半導(dǎo)體薄膜之后立即連續(xù)形成一層背面電極薄膜,覆蓋住上述半導(dǎo)體薄膜;
用激光束照射上述透光基片,去掉被照射部位中的上述半導(dǎo)體薄膜和上述背面電極薄膜,從而將上述半導(dǎo)體薄膜和上述背面電極薄膜分隔成各個(gè)區(qū)域;其特征在于:上述激光束是從上述透光基片的另一主表面?zhèn)日丈涞摹?/p>
6、按照權(quán)利要求5所述的制造方法,其特征在于:在各個(gè)區(qū)域中的背面薄膜電極上連續(xù)形成一層連接電極薄膜,覆蓋住外露的透明薄膜電極;用激光束照射上述連接電極薄膜并去掉被照射部位的連接電極薄膜,從而將上述連接電極薄膜分隔成各個(gè)區(qū)域,在分隔上述連接電極薄膜的步驟中所用的激光束是從上述透光基片的另一主表面?zhèn)冗M(jìn)行照射的。
7、按照權(quán)利要求1、3、5和6中任一項(xiàng)所述的制造方法,其特征在于:上述激光束的波長(zhǎng)從0.30微米到0.820微米的范圍內(nèi)進(jìn)行選擇。
8、按照權(quán)利要求7所述的制造方法,其特征在于:選擇上述激光束的波長(zhǎng)近似為0.53微米。
9、一種制造半導(dǎo)體器件的方法,包括下列步驟:
準(zhǔn)備一個(gè)透光基片;
在上述透光基片的一主表面?zhèn)刃纬赏该鞅∧る姌O,并將其分隔成各個(gè)區(qū)域;
在上述透光基片的一主表面?zhèn)刃纬梢粚又饕煞蔷Ч杞M成的具有光電轉(zhuǎn)換功能的半導(dǎo)體薄膜;
在上述半導(dǎo)體薄膜上形成一層背面電極薄膜;
用激光束照射上述透光基片,并去掉被照射部位的上述半導(dǎo)體薄膜和背面電極薄膜,從而將上述半導(dǎo)體薄膜和上述背面電極薄膜分隔成各個(gè)區(qū)域;
在上述背面電極薄膜上形成連接電極薄膜;
用激光束照射上述連接電極薄膜,并除去被照射部位中的連接電極薄膜,從而把上述薄膜分隔成各個(gè)區(qū)域;其特征在于:上述各步中所用的激光束是從上述透光基片的另一主表面?zhèn)冗M(jìn)行照射的。
10、一種制造線(xiàn)性光敏元件的方法,其特征在于:把半導(dǎo)體薄膜和電極薄膜分隔成各個(gè)區(qū)域所用的激光束是從上述透光基片的另一主表側(cè)照射的。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于三洋電機(jī)株式會(huì)社,未經(jīng)三洋電機(jī)株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://m.szxzyx.cn/pat/books/85106463/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專(zhuān)門(mén)適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過(guò)程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫(xiě)分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線(xiàn)程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





