[其他]具有供動態(tài)波束型調(diào)變用的兩件式簾柵極裝置的電子槍無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 85107200 | 申請日: | 1985-09-26 |
| 公開(公告)號: | CN85107200A | 公開(公告)日: | 1986-07-23 |
| 發(fā)明(設計)人: | 陳辛勇 | 申請(專利權(quán))人: | RCA公司 |
| 主分類號: | H01J29/48 | 分類號: | H01J29/48 |
| 代理公司: | 中國專利代理有限公司 | 代理人: | 匡少波 |
| 地址: | 美國新澤西州*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 動態(tài) 波束 型調(diào)變用 兩件式簾 柵極 裝置 電子槍 | ||
1、一種用于陰極射線管(8)內(nèi)的排列式電子槍(26;26′)該電子槍包括按所述的次序成相間關系的多個陰極(34);一控制柵(36);簾柵電極裝置(38;38′);及至少兩個主要焦點聚波器電極;其特征在于所述簾柵電極裝置包括兩個相間的金屬構(gòu)件(G2a,G2b;G2a′,G2b′);所述構(gòu)件中的至少一個有多個形成于其表面的長方形槽縫(52;62),所述槽線的深度小于該構(gòu)件的厚度,并且所述槽線面向構(gòu)件(G2b;G2a′)中的另一構(gòu)件,以及多個圓形隙孔(54;64)與槽縫構(gòu)通并伸過該構(gòu)件。
2、根據(jù)權(quán)利要求1的電子槍(26),其特征在于所簾柵電極裝置(38)的間開構(gòu)件包括與所述控制柵(36)相鄰的一第一構(gòu)件(G2a)和位于第一構(gòu)件和上述主要焦點聚波器,電極(40;42)之間的第二構(gòu)件(G2b),該第一構(gòu)件具有所述面對第二構(gòu)件的長條矩形槽縫(52)。
3、根據(jù)權(quán)利要求2的電子槍(26),其特征在于所述第一構(gòu)件(G2a)的厚度比第二構(gòu)件(G2b)的厚度要大。
根據(jù)權(quán)利要求1的電子槍(26′),其特征在于,所述的簾柵電極裝置(38′)的間開構(gòu)件包括一與所述控制柵(36)相鄰的一構(gòu)件(G2a′)和位于上述第一構(gòu)件和所述主要焦點聚波器(40,42),所述第二構(gòu)件具有面向第一構(gòu)件的長條矩形槽縫(62)。
4、根據(jù)權(quán)利要求3或4的電子槍(26,26′),其特征在于所述矩形槽縫(52;62)在電子槍的排列方向是細長條的。
5、根據(jù)權(quán)利要求3或4的電子槍(26;26′),其特征在于調(diào)制電壓加于所述第二構(gòu)件(G2b;G2b′)。
6、根據(jù)權(quán)利要求1的電子槍,其特征在于該簾柵電極裝置(38)的每一構(gòu)件(G2a,G2b)有多個形成在其一表面上的長細的矩形槽縫線,該槽縫線的深度小于所述的構(gòu)件的厚度,并且面對構(gòu)件中的另一構(gòu)件,以及多個圓形隙孔(54)形成在每個構(gòu)件中,這些構(gòu)件與所述槽縫均通并伸過上述構(gòu)件,一所述構(gòu)件的槽縫與另一構(gòu)件的槽縫成正交。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于RCA公司,未經(jīng)RCA公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://m.szxzyx.cn/pat/books/85107200/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:含硫廢氣的凈化工藝
- 下一篇:制備1,6-二氮雜萘衍生物及其藥用組和物的方法





