[其他]高反差正性光致抗蝕劑顯影的方法

無效

• 申請號: 85107347
• 申請日: 1985-09-30
• 公開（公告）號: CN85107347A
• 公開（公告）日: 1986-08-20
• 發明（設計）人: 詹姆斯·馬丁·劉易斯
• 申請（專利權）人: 阿蘭特公司
• 主分類號: G03C5/24
• 分類號: G03C5/24
• 代理公司: 上海專利事務所
• 代理人: 張恒康

1、一種對正性輻照敏感的包括有苯醌二疊氮基磺酸衍生物和堿可溶性樹脂組成的抗蝕劑膜，這種抗蝕劑膜巳涂布在襯底上，并經輻照曝光后，為形成一表面凹凸圖形的顯影法，該顯影法包括：

(a)使曝光抗蝕劑膜同含有以顯影液的重量計0.001%～1.0%的表面活性劑的含水堿性預處理溶液接觸，其中所說的表面活性劑是從碳氟化合物或羧化物表面活性劑和足以提供堿度的基礎成分組成的基團中選取的。

(b)從工序(a)得到的預處理薄膜經水的清洗。

(c)從工序(b)得到的巳預處理抗蝕劑膜同PH值至少為9和至少含有以顯影液重量計0.0001%的表面活性劑的含水顯影溶液接觸，其中所說的表面活性劑是由碳氟化合物或羧化合物的表面活性劑組成的基團中選取的，以便溶解所說抗蝕劑膜的曝光部分。

2、根據權利要求1所述的方法，其特征在于其中工序（a）的預處理溶液的堿性濃度是工序（c）顯影溶液的堿性濃度的10%～75%。

3、根據權利要求1所述的方法，其特征在于其中表面活性劑是占顯影液的總重量計的0.001%～0.1%范圍內。

4、根據權利要求1所述的方法，其特征在于其中工序（a）中的預處理溶液的堿度由加入氫氧化鉀作調整。

5、根據權利要求1所述的方法，其特征在于其中工序（a）中的預處理溶液的堿度由加入碳酸鉀作調整。

6、根據權利要求1所述的方法，其特征在于其中工序（a）和（c）中所應用的表面活性劑是碳氟化合物表面活性劑和由化學公式R_f-y-（CH₂CH₂O）_mR所表示組分，其中y是從基團-CH₂CHO-、-SO₂NR′、SO₃、SO₂N（R′）CH₂CO₂CO₂和-CO-NR′中選取的原子團，其中R_f或是化學式C_pF_2p+1的直鏈或是支鏈，P是一個3～17的整數，而其中R是1～30碳原子的氫或酰基或者烷基的原子團，m是一個2～60的整數，而更佳m是一個5～26的整數，以及R′是1～6碳原子的氫或酰基或者烷基的原子團。

7、根據權利要求1所述的方法，其特征在于其中在工序（a）和（c）中應用的表面活性劑是由化學式表示的羧化物表面活性劑：

其中R是6～8碳原子的脂肪烷基團，R₁是C₁～C₃烷取代基，n具有2～4的數值，m具有1～100的數值和X是選自由H⁺、Na⁺、K⁺、Li⁺、NH⁺₄、二乙醇胺、三乙醇胺、Al⁺⁺、Cu⁺⁺、Mg⁺⁺和Sr⁺⁺。