[其他]新型太陽能反光材料及制備技術(shù)

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 85107406
• 申請(qǐng)日: 1985-10-09
• 公開（公告）號(hào): CN85107406A
• 公開（公告）日: 1986-07-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 郭信章
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京市太陽能研究所
• 主分類號(hào): C23C14/34
• 分類號(hào): C23C14/34;G02B5/08
• 代理公司: 北京市科技專利事務(wù)所
• 代理人: 韓建功

1、一種反光鍍膜，其特征在于用磁控濺射方法在不銹鋼，碳鋼，其它合金材料，玻璃，陶瓷及能耐溫300℃左右高分子材料涂層表面上制備ZrNx，TiNx及Zr，Ti與其它元素合金的化合物的反光鍍膜。

2、如權(quán)利要求1所述的反光鍍膜，其特征在于在膜生成的磁控濺射過程中，加熱溫度為200℃～450℃的基體上施加一個(gè)-50V～-300V的偏壓來提高反光率，改善表面狀況，同時(shí)向真空室內(nèi)分別通入可變分壓的氮?dú)饧皻鍤猓磻?yīng)氣體與靶上濺射出來的Zr或Ti及它們的合金元素起反應(yīng)沉積到加偏壓的基體上，生成一定厚度的反射膜。

3、如權(quán)利要求1所述的反光鍍膜，其特征在于在膜生成的磁控濺射過程中可以不斷改變反應(yīng)氣體的分壓和濺射時(shí)間來生成不同成份多層的金屬氮化物。其化學(xué)結(jié)構(gòu)元素的配比，可從1變到0而得到所需要的物理性能的配比膜。

4、如權(quán)利要求1至3所述的反光鍍膜，其特征在于可通過調(diào)整反應(yīng)氣體分壓以及所施加的偏壓可得到各種不同顏色的彩色反光膜，此種反光膜也可作為裝飾膜。