[其他]用于真空沉積鍍層的方法和裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 85107585
• 申請(qǐng)日: 1985-10-14
• 公開（公告）號(hào): CN85107585A
• 公開（公告）日: 1987-05-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 古川平三郎;和氣完治;下里省夫;柳謙一;加藤光雄;和田哲義;筑地憲夫;愛甲琢哉;橘高敏晴;中西康二
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三菱重工業(yè)株式會(huì)社;日新制鋼株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C23C14/56
• 分類號(hào): C23C14/56
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利代理部
• 代理人: 姚珊

本發(fā)明涉及的是一種用于真空沉積鍍層的方法及裝置。

論及到的真空沉積鍍層的設(shè)備，是為了達(dá)到防止灰塵及類似物從大氣中侵入真空室的目的。已經(jīng)提出了從大氣壓力下逐漸降低真空室壓力的設(shè)備，用來(lái)逐漸地形成真空狀態(tài)，同時(shí)，充有大氣中不活潑氣體的室布置在退火爐和真空室之間。（見日本專利公開號(hào)6576/1969和日本專利臨時(shí)公開號(hào)85742/1978）。

在真空沉積鍍層工作的過程中，涂于鋼帶上的金屬鍍層的粘著強(qiáng)度必須達(dá)到這樣的要求：既使是在苛刻的工作條件下，例如承受180°的彎曲，甚至是180°的反復(fù)彎曲及類似情況，均不會(huì)出現(xiàn)剝落、裂紋和粉沫狀況。為了滿足這種要求，鋼帶需要進(jìn)行低溫退火，并在氫氣含量為5～75%的氣體中進(jìn)行還原，以便使鋼帶的表面很活潑，當(dāng)在這個(gè)活潑的表面上進(jìn)行真空沉積鍍層時(shí)，鋼帶的金屬鍍層上即可獲得足夠的粘著強(qiáng)度。這就是說(shuō)，如果把鋼帶送至真空沉積室，在活潑表面狀態(tài)下通過真空沉積室，就能夠獲得上面提到的目的。

剛剛描述的常規(guī)過程，其目的在于提供一個(gè)高壓室來(lái)防止灰塵和其它類似物侵入真空室，但僅憑這種結(jié)構(gòu)并不能提供真空鍍層的產(chǎn)品，即前面所要求的產(chǎn)品。這就是說(shuō)，當(dāng)鋼帶在其中被退火并還原的低溫退火爐（具有大氣壓力加5至10mm水柱）與真空室直接連接時(shí)，低溫退火爐中的氫氣（含量為5～75%）遂經(jīng)過真空室排出。如果真空室破裂，空氣（含有氧氣）侵入真空室，則很有可能發(fā)生爆炸。因此，所提出的設(shè)想不能在工業(yè)領(lǐng)域中應(yīng)用。

正是由于此種原因，采用了下述的其它措施：在退火爐和真空室之間配置一個(gè)氮?dú)庵脫Q室，并將氮?dú)猓∟₂氣體）引入氮?dú)庵脫Q流室，取代其中的氫氣，因而氮?dú)饪捎烧婵帐遗懦觯⒖杀苊獗ǖ奈ｋU(xiǎn)。然而，在這種通常的方法中，氮?dú)猓∟₂）卻白白地從系統(tǒng)中排放掉，這勢(shì)必導(dǎo)致材料成本大大地增加。

因此，本發(fā)明的目的是提供一種真空沉積鍍層的方法，以便能夠解決上面提到的問題，而且不影響退火爐、真空室和實(shí)行新方法的真空沉積鍍層裝置的固有作用。

這就是說(shuō)，本發(fā)明涉及到一種用于真空沉積鍍層的方法，它包括使用一種真空沉積鍍層的裝置，該裝置包括：設(shè)在真空沉積鍍層室前面的入口側(cè)真空密封裝置，設(shè)在入口側(cè)真空密封裝置和退火爐之間的入口側(cè)不活潑氣體置換室，設(shè)在真空沉積鍍層室后面的出口側(cè)真空密封裝置，設(shè)在出口側(cè)真空密封裝置和大氣之間的出口側(cè)不活潑氣體置換室，用于使不活潑氣體從兩個(gè)真空密封裝置的真空室至兩個(gè)真空密封裝置的大氣壓力室進(jìn)行循環(huán)、及用于從不活潑氣體中分離出水、油和氧的不活潑氣體循環(huán)/純化裝置;以上所述真空沉積鍍層的方法，其特征在于，將純化后不活潑氣體中氧的濃度調(diào)節(jié)至60ppm或更低，氫的濃度調(diào)節(jié)至0.2～2.0%，并調(diào)整不活潑氣體的露點(diǎn)至-50℃或更低。

更進(jìn)一步說(shuō)，本發(fā)明涉及到用于真空沉積鍍層的方法，它包括使用一種真空沉積鍍層的裝置，該裝置包括：設(shè)在真空沉積鍍層室前面的入口側(cè)真空密封裝置，設(shè)在入口側(cè)真空密封裝置與退火爐之間的入口側(cè)不活潑氣體置換室，設(shè)在真空沉積鍍層室后面的出口側(cè)真空密封裝置，設(shè)在出口側(cè)真空密封裝置與大氣之間的出口側(cè)不活潑氣體置換室，用于使不活潑氣體從兩個(gè)真空密封裝置的真空室至兩個(gè)真空密封裝置的大氣壓力室進(jìn)行循環(huán)、及用于從不活潑氣體中分離出水、油和氧的不活潑氣體循環(huán)/純化裝置;上述真空沉積鍍層的方法，其特征在于，分別把退火爐中的壓力P₁調(diào)節(jié)至大氣壓力或更高，把入口側(cè)不活潑氣體置換室的壓力P₂調(diào)節(jié)至大氣壓力或更高，把出口側(cè)不活潑氣體置換室的壓力P₃調(diào)節(jié)至大氣壓力或更高，把P₁、P₂的差值P₁-P₂控制到0mm水柱或更高，把入口側(cè)不活潑氣體置換室中氫氣濃度控制到2.0%或更少。