[其他]熱鍍鋅碳化硅槽及附屬設(shè)備無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 85109364 | 申請日： | 1985-12-24 |
| 公開（公告）號： | CN85109364A | 公開（公告）日： | 1987-07-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 潘曉笛 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國人民解放軍蘭州軍區(qū)后勤部油料部能源技術(shù)研究室 |
| 主分類號： | C23C2/06 | 分類號： | C23C2/06 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 甘肅省蘭州市*** | 國省代碼： | 甘肅;62 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 鍍鋅 碳化硅 附屬 設(shè)備 | ||
【權(quán)利要求書】：
1、用碳化硅燒結(jié)的熱鍍鋅槽及槽內(nèi)設(shè)備。
2、用磷酸鋁碳化硅搗制的熱鍍鋅槽及槽內(nèi)設(shè)備。
3、根據(jù)權(quán)利要求1所述原理，小型整體的以及分段分塊粘結(jié)的熱鍍鋅設(shè)備。
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- 專利分類
C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C2-00 用熔融態(tài)覆層材料且不影響形狀的熱浸鍍工藝；其所用的設(shè)備
C23C2-02 .待鍍材料的預處理，例如為了在選定的表面區(qū)域上鍍覆
C23C2-04 .以覆層材料為特征的
C23C2-14 .過量熔融覆層的除去；覆層厚度的控制或調(diào)節(jié)
C23C2-26 .后處理
C23C2-30 .熔劑或融態(tài)槽液上的覆蓋物
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C2-00 用熔融態(tài)覆層材料且不影響形狀的熱浸鍍工藝；其所用的設(shè)備
C23C2-02 .待鍍材料的預處理，例如為了在選定的表面區(qū)域上鍍覆
C23C2-04 .以覆層材料為特征的
C23C2-14 .過量熔融覆層的除去；覆層厚度的控制或調(diào)節(jié)
C23C2-26 .后處理
C23C2-30 .熔劑或融態(tài)槽液上的覆蓋物
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗設(shè)備、驗證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
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- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)
