[其他]無(wú)前單色器的X射線掠射聚焦衍射裝置無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 85200024 | 申請(qǐng)日: | 1985-04-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN85200024U | 公開(kāi)(公告)日: | 1986-08-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陶琨 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 清華大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N23/20 | 分類(lèi)號(hào): | G01N23/20 |
| 代理公司: | 清華大學(xué)專利事務(wù)所 | 代理人: | 張善余 |
| 地址: | 北京市海*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 無(wú)前 單色 射線 聚焦 衍射 裝置 | ||
一.本實(shí)用新型屬于材料的X射線衍射分析儀器。
二.現(xiàn)有技術(shù)及其文件是:
1.薄膜X射線衍射儀。見(jiàn)日本理學(xué)公司期刊一卷、二期,1984年12月、第22頁(yè)(The????RIGAKU????Journal????Dec./1984,Vol.1,No2,P.22,)這篇文章是該公司的最新產(chǎn)品研制報(bào)告。此儀器是不聚焦的。因此,當(dāng)2θ稍大時(shí),它的衍射線寬度就很大而不實(shí)用。所以,應(yīng)用時(shí)須入射狹縫極小,從而衍射強(qiáng)度大大下降,靈敏度也大大下降。
2.瑞德(Read)相機(jī)法。此方法與上述方法的原理相同,不同之處只是采用照相底片記錄。因而也有上述方法的缺點(diǎn),并且不能定量。
3.回射紀(jì)尼葉(Guinier)聚焦相機(jī)法。這種相機(jī)可以掠射入射,并且聚焦。現(xiàn)有多種產(chǎn)品。最近的用于研究薄膜的文章見(jiàn)日文文章:小林勇二,吉松滿。X線分析進(jìn)步。V.11,P.9,1984。但此種相機(jī)均有前單色器,因而衍射線強(qiáng)度大大下降。分析時(shí)間大大延長(zhǎng),定量也困難。上述文章只測(cè)到800金膜。
4.紀(jì)尼葉衍射儀法,亦可稱為有前單色器的西曼-波林衍射儀法,又可簡(jiǎn)稱西曼-波林衍射儀法。典型文章見(jiàn)R.Feder.B.S.Berry,J.Appl.Cryst.,3(1970).372.80年代的產(chǎn)品有西德賽費(fèi)爾特(Seifert)公司的641型。它可以掠射入射,并且聚焦。但它裝有前單色器,故強(qiáng)度損失90%以上。因而靈敏度低且記錄時(shí)間長(zhǎng)。
三.本實(shí)用新型的目的在于改進(jìn)現(xiàn)有的固體表面及薄膜的分析方法。即:
1.提高固體表面及薄膜的分析靈敏度(提高其衍射強(qiáng)度);
2.限制固體表面下的物質(zhì)及薄膜所附基體的衍射信息,排除干擾,使測(cè)得是基本相同的表層厚度的衍射信息。
四.本實(shí)用新型的內(nèi)容及實(shí)現(xiàn)方法:
1.對(duì)一般衍射儀作如下調(diào)整:首先將測(cè)角儀22與X光管16的相互位置調(diào)整到圖1所示位置。具體要經(jīng)過(guò)計(jì)算,使得:測(cè)角儀軸線1(即0)與X光管焦點(diǎn)18的距離等于測(cè)角儀軸線0到接收狹縫10的距離R,(此R不一定是原測(cè)角儀園的半徑,但下面敘述中仍按原半徑敘述。)將原入射狹縫架21、原入射索拉狹縫20置于圖1中所示大體的位置,以免它干擾必須的運(yùn)動(dòng),使X光管16出射角大約為6°。
2.在X光管套上裝上盡量緊湊的新的發(fā)散狹縫座15,它可以設(shè)計(jì)得能利用原有狹縫。新狹縫座內(nèi)安裝索拉(Soller)狹縫17。同時(shí)應(yīng)裝上能開(kāi)關(guān)X光管窗口的活動(dòng)檔板19。整個(gè)狹縫座的厚度要盡量小,以使掠射角更小。
3.樣品架的設(shè)計(jì)可以如下:
拆去原有位于軸心O處的樣品架,在原有θ轉(zhuǎn)盤(pán)上裝上一個(gè)水平伸出的旋臂附件12,此旋臂上距測(cè)角儀軸線O為R之處裝一軸A(即13),13上有可隨意轉(zhuǎn)動(dòng)的軸套,在其上方處裝樣品架14,樣品表面中心要經(jīng)過(guò)軸A的軸線,這樣樣品表面即處于聚焦園上,樣品架能繞軸A的軸線作角度不大的轉(zhuǎn)動(dòng),以便調(diào)整樣品使樣品表面與聚焦園2相切。如須減少樣品的織構(gòu)影響,可以使樣品能繞其表面的法線旋轉(zhuǎn)。(樣品架及圖1中13處的軸A也可以不裝在旋臂12上,可以均固定于X射線管套上,此時(shí)即不須要旋臂12。
4.定向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的設(shè)計(jì)可以如下:
去掉原有的2θ懸臂3上的接收狹縫架,在此懸臂上,對(duì)應(yīng)于接收狹縫中心線B(即10處)裝上墊塊(B到測(cè)角儀軸線的距離也為R)。墊塊上裝上一薄型軸承(可自己設(shè)計(jì)簡(jiǎn)易軸承,這樣可更薄。)軸承的軸線也是B,軸承上另托一個(gè)新的2θ懸臂4,這樣,新、舊2θ懸臂即可繞B相互轉(zhuǎn)動(dòng)。在4上裝上原有接收狹縫架(或新設(shè)計(jì)的接收狹縫架)9(以及與它連在一起的索拉狹縫8及防散射狹縫7),石墨單色器5及計(jì)數(shù)管6,接收狹縫的中心要位于B軸線上。
5.新的2θ懸臂上要有一個(gè)水平孔,此孔位置要高于θ平臺(tái),孔中配一滑動(dòng)配合的長(zhǎng)軸11,此長(zhǎng)軸伸出與前述的A軸上的軸套連接。在這里,要注意的是原2θ懸臂與接收狹縫架之間加進(jìn)了軸承、軸承座及新的2θ懸臂,則必須在X光管下面加墊塊以提高其高度,同時(shí)應(yīng)予備活動(dòng)塊(即墊塊)使按衍射儀通常用法時(shí)也提高衍射儀位置,此種墊塊厚度一般25~30mm即可。
這樣,X光管焦點(diǎn)、樣品表面中心、接收狹縫中心三者就均處于西曼-波林聚焦園上。且樣品表面與聚焦園相切,并且當(dāng)原有2θ旋臂旋轉(zhuǎn)時(shí)接收狹縫永遠(yuǎn)指向樣品中心。
6.利用原有控制系統(tǒng),轉(zhuǎn)動(dòng)θ轉(zhuǎn)盤(pán),使樣品盡量靠近X光管窗口,并調(diào)到適當(dāng)位置以便做到掠射入射,掠射角以8°~15°為佳。此后,實(shí)測(cè)樣品時(shí),此θ轉(zhuǎn)盤(pán)位置不再運(yùn)動(dòng)。
這樣,就構(gòu)成了無(wú)前單色器的西曼-波林掠射聚焦衍射儀。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于清華大學(xué),未經(jīng)清華大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://m.szxzyx.cn/pat/books/85200024/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:砂質(zhì)電熱火鍋
- 下一篇:多功能木工撥齒鉗
- 同類(lèi)專利
- 專利分類(lèi)
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N23-00 利用未包括在G01N 21/00或G01N 22/00組內(nèi)的波或粒子輻射來(lái)測(cè)試或分析材料,例如X射線、中子
G01N23-02 .通過(guò)使輻射透過(guò)材料
G01N23-20 .利用輻射的衍射,例如,用于測(cè)試晶體結(jié)構(gòu);利用輻射的反射
G01N23-22 .通過(guò)測(cè)量二次發(fā)射
G01N23-221 ..利用活化分析法
G01N23-223 ..通過(guò)用X射線輻照樣品以及測(cè)量X射線熒光





