[其他]場致發射掃描俄歇電子顯微鏡

無效

• 申請號: 86100036
• 申請日: 1986-01-03
• 公開（公告）號: CN86100036A
• 公開（公告）日: 1986-07-23
• 發明（設計）人: 約翰尼斯·喬治·貝德諾爾茨;詹姆斯·卡齊密爾茨·吉姆齊夫斯基;布魯諾·賴爾
• 申請（專利權）人: 國際商業機器公司
• 主分類號: H01J37/285
• 分類號: H01J37/285;H01J37/28
• 代理公司: 上海專利事務所
• 代理人: 顏承根

1、場致發射掃描俄歇電子顯微鏡包括場致發射源，樣品支架，使場致發射源及樣品相互移位的掃描裝置，帶有關電子數據處理電路的電子探測器及顯示和/或記錄結果用的裝置，其特征在于場致發射源包括一有尖銳尖端且尖端半徑為≤100nm的尖頭，上述尖頭保持在距上述樣品表面為≤1的基本上恒定的距離上及在上述尖頭與上述樣品之間保持電位差。

2、根據權利要求1的顯微鏡，其特征在于上述尖頭由有指向的鎢觸須所制成。

3、根據權利要求1的顯微鏡，其特征在于上述尖頭包括一加熱裝置以便在使用前使尖頭清潔及/或變尖及在工作時使電子發射增強。

4、根據權利要求1的顯微鏡，其特征在于上述尖頭和上述電子能量分析器相對于上述樣品剛性安裝及上述樣品被支持在XYZ驅動模件上。

5、根據權利要求1的顯微鏡，其特征在于在上述尖頭和上述樣品之間的電位差為在10伏到2000伏之間可調。

6、根據權利要求1的顯微鏡，其特征在于上述尖頭相對于上述樣品以負壓偏置，及樣品和電子能量分析器的進入透鏡都連在地電位上。