[其他]膠印印版的親水支持體材料、其制備方法及應用

無效

• 申請號: 86101022
• 申請日: 1986-02-03
• 公開（公告）號: CN86101022A
• 公開（公告）日: 1986-08-06
• 發明（設計）人: 邁克爾·布倫克;里納特·倫斯特
• 申請（專利權）人: 赫徹斯特股份公司
• 主分類號: G03F7/02
• 分類號: G03F7/02;G03F7/16;B41N1/08
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利代理部
• 代理人: 王杰,張元忠

1、膠印印刷版的支持體材料，有板材、薄板材或卷筒狀材料，由可預處理的鋁或鋁合金組成，其特征是至少在其一面有磷酸化合物的親水涂層，其親水涂層包含：

a)丙烯酰胺異丁烯磷酸聚合物或

b)丙烯酰胺和丙烯酰胺異丁烯磷酸的共聚物或

c)a)或b)帶有一種至少二價金屬陽離子的鹽。

2、根據權利要求1所敘述的支持體材料，其中丙烯酰胺/丙烯酰胺異丁烯磷酸單體，在b）或c）共聚物中的比例是1∶99到99∶1。

3、根據權利要求1所敘述的支持體材料，其中單體的比例是3∶97到90∶10。

4、根據權利要求1到3中敘述的任一種支持體材料，其中涂層c）中的金屬陽離子是V⁵⁺、Bi³⁺、Al³⁺、Fe³⁺、Zr⁴⁺、Sn⁴⁺、Ca²⁺、Ba²⁺、Sr²⁺、Ti³⁺、Co²⁺、Fe²⁺、Mn²⁺、Ni²⁺、Cu²⁺、Zn²⁺或Mg²⁺離子。

5、根據權利要求1到4中敘述的任何一種支持體材料，其中涂層包含有產品a）和/或b）和/或c）的混合物。

6、根據權利要求1到5中敘述的任何一種支持體材料，其中鋁被酸洗。

7、根據權利要求1到6中敘述的任何一種支持體材料，其中鋁被粗化。

8、根據權利要求1到7中敘述的任何一種支持體材料，其中鋁被陽極氧化。

9、根據權利要求6到8中敘述的任何一種支持體材料，其中鋁的峰-谷高度R₂為3到10微米。

10、根據權利要求8或9所敘述的支持體材料，其中鋁的氧化層厚度為0.3到3.0微米。

11、根據權利要求1到10中敘述的任何一種膠印印版支持體材料的制備方法，用a）到c）的溶介產物或它們的混合物涂敷，鋁或鋁合金;濃度為0.02到5.0%（以重量計）的水溶液。支持體材料可以酸化，用浸泡或電化學處理，並將涂層干燥。

12、根據權利要求1到10中任何一種所敘述的支持體材料的制備方法，它包含了涂層c）的制備方法。鋁或鋁合金的處理方法是先用0.01到10.0%的a）和/或b）的聚合物溶液，然后用0.1%到飽和的，最好是有陽離子的鹽水溶液V⁵⁺、Bi³⁺、Al³⁺、Fe³⁺、Zr⁴⁺、Sn⁴⁺、Ca²⁺、Ba²⁺、Sr²⁺、Ti²⁺、Co²⁺、Fe²⁺、Mn²⁺、Ni²⁺、Cu²⁺、Zn²⁺、或Mg²⁺離子來處理，并干燥從反應產物中制得的涂層。

13、根據權利要求11或12所敘述的支持體材料制備方法，它包含有在用親水化合物涂敷前經酸洗和/或陽極氧化鋁或鋁合金。

14、根據權利要求1到13中所敘述的任何一種涂有光敏物質的支持體材料的使用。