[其他]在無機非導(dǎo)體表面產(chǎn)生金屬結(jié)構(gòu)物的方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 86102468
• 申請日: 1986-04-16
• 公開（公告）號: CN86102468A
• 公開（公告）日: 1986-10-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 哈拉德·蘇爾;厄恩斯特·費尤爾;查斯蒂安·奧爾
• 申請（專利權(quán)）人: 舍林股份公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/18;H05K3/06
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利代理部
• 代理人: 陸麗英

本發(fā)明目的是用物理方法-即不用水浸蝕和活性溶液-在無機非導(dǎo)體表面產(chǎn)生金屬結(jié)構(gòu)物。就此而論，本發(fā)明的特征在于所需的金屬結(jié)構(gòu)物可通過正面印相（或以正相形式）方法貼敷在基片上。因此從本質(zhì)上來說，本發(fā)明所涉及的是一種與眾所周知方法截然不同的工藝方法，眾所周知的方法是不覆蓋要鍍金屬的表面部分，即反掩模敷設(shè)在基片上。

本發(fā)明不僅導(dǎo)致制造印刷電路的新途徑，尤其是在電子學(xué)方面制造精細(xì)的導(dǎo)體電路和多層電路的新途徑，而且，還導(dǎo)致制造裝飾用的各種結(jié)構(gòu)物，裝飾品及其類似物的新途徑。

本發(fā)明按照下列步驟實施：

1、基片采用正面印相方法用掩模、感光保護層或絲網(wǎng)漆層覆蓋。

2、將上述物體置于光輻射區(qū)中，并受到含有鹵素的活性氣體的作用。

3、除掉掩模或保護層。

4、用習(xí)慣方法例如蒸發(fā)鍍、陰極濺鍍，等離子噴鍍金屬使基片敷以金屬層。

5、通過在水或金屬絡(luò)合物水溶液（分別為無機和/或有機化合物）中浸泡基片，“沖洗”出所需的結(jié)構(gòu)物。

當(dāng)其暴露在含鹵氣體的等離子區(qū)中時，在基片未覆蓋的表面產(chǎn)生了活性鹵化物。驚人的是在連續(xù)的物理的金屬噴鍍期間，形成的可溶性的金屬鹵化物可用簡單浸泡處理就被除掉，從而在等離子處理期間，噴鍍的金屬只保留在被覆蓋的地方。

在等離子處理時所形成的活性鹵化物非常堅固。例如，在連續(xù)真空蒸發(fā)鍍期間它們不會被去掉，在存放若干天后它們?nèi)匀煌耆行В虼嗽诎凑毡景l(fā)明的工藝方法產(chǎn)生這種結(jié)構(gòu)物時，確保得到可靠的實施結(jié)果。

按照本發(fā)明的工藝方法制得的金屬結(jié)構(gòu)物可用眾所周知的方法進行強化，最好用連續(xù)鍍銅的方法或在電鍍槽里化學(xué)鍍鎳的方法，以便強化金屬鍍層。

所有常見的無機非導(dǎo)體，尤其是氧化鋁陶瓷、氧化硅陶瓷、玻璃以及有氧化層的金屬如鋁都能當(dāng)作基片使用。

含鹵素的最合適的氣體是三氯化硼、四氯化硅、三氟化硼和四氯化碳。

用以下實例說明本發(fā)明：

實例1

在氧化鋁陶瓷上產(chǎn)生蒸發(fā)鍍金的結(jié)構(gòu)物

用絲網(wǎng)噴漆或其它常用的工藝方法，將所需的導(dǎo)體圖形貼敷在尺寸為50×50×2毫米的陶瓷片上。

陶瓷片在下列條件下，在等離子反應(yīng)器中經(jīng)受等離子處理：

電極溫度????150℃

頻率????13.56兆赫

功率密度 1.6瓦/厘米²

反應(yīng)器中的壓力????0.5百帕斯卡（hpa）

反應(yīng)氣體????三氯化硼

運載氣體????氬

等離子的反應(yīng)時間????90分鐘

陶瓷片在等離子反應(yīng)結(jié)束之后，從反應(yīng)器中取出來，通過在適當(dāng)?shù)挠袡C溶液中浸泡，除掉片上絲網(wǎng)漆層。

然后將此片放在普通的，真空蒸發(fā)鍍用的器具中蒸發(fā)鍍金。在未涂保護層處（即這些地方直接暴露在等離子中）的金變?yōu)槿苡谒幕衔铩Ｕ舭l(fā)鍍以后，此片泡在水里，金化合物被溶解，所需的結(jié)構(gòu)物以一層薄金的形式保留在表面上。

實例2

在氧化硅陶瓷上產(chǎn)生蒸發(fā)鍍銅的結(jié)構(gòu)物

在一些尺寸為80×40×3毫米的氧化硅陶瓷片上覆蓋所需結(jié)構(gòu)物的掩模，并受到與實例1所到條件相同的等離子作用。然后，將這些片子從反應(yīng)器中取出來，并除掉掩模。

用陰極濺鍍法，以普通的方式將其表面敷銅。

然后，將這些片子浸泡在含有5%阿摩尼亞溶液的水中，先前受等離子作用之處的銅層被除掉。這些結(jié)構(gòu)物取決于留在片上的掩模圖形。

如果有必要，這些結(jié)構(gòu)物可在化學(xué)銅槽里進行強化處理;就此而言，不需要其它的活化處理（例如浸泡在含有貴金屬的溶液中）。

如果這些片敷銀，而不敷銅，則可得到同樣的結(jié)果。此處，在等離子處理期間的未覆蓋處，在連續(xù)浸泡于阿摩尼亞溶液中時，銀以配位化合物（complex????compound）的形式被除掉。