[其他]在液體噴射靜電涂敷機中用隨機微滴生成法保證均勻和密實的方法和裝置

無效

• 申請號: 86103036
• 申請日: 1986-04-30
• 公開（公告）號: CN86103036A
• 公開（公告）日: 1987-04-29
• 發明（設計）人: 約翰·L·迪里斯勒;伯比·L·麥克康尼爾;邁克爾·I·格蘭;約瑟夫·P·霍爾德
• 申請（專利權）人: 伯林頓工業公司
• 主分類號: D06B1/02
• 分類號: D06B1/02;B05B5/02
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利代理部
• 代理人: 杜日新

1、一種用液體噴射靜電涂敷機實現移動織品被染物每單位面積的可控液量均勻涂復的方法，該涂敷機采用線孔陣隨機微滴形成法，并且其中，從所述線性孔陣生成的隨機微滴只在插入的間隔時間ST之間的可控制印染時間T期間，才能通過并進入其下面的織品被染物，該方法的步驟包括：

將該印染時間T維持在預定的最小值以上，及通過控制上述間隔時間ST來控制上述液量V。

2、權利要求1所述的方法，其中上述預定的T的最小值應足夠大以使在給定印染時間T內沿線性孔陣在微滴形成處理中產生的微滴能呈現有效的平均隨機變化，其方法是，要保證在給定時間T內，對給定液體、給定液體壓力以及給定的孔徑尺寸，以期望的微滴形成統計平均率、至少形成N個微滴，這里所選的N值應保證在每一T內印染量的標準偏差小于約0.2。

3、權利要求1所述的方法，其中N約等于4。

4、權利要求1所述的方法，其中，該預定的T的最小值約為200微秒。

5、將被控制的每單位面積液體容量V均勻噴涂在被染物的運動部位的方法包括如下步驟：

沿與被染物運動方向相垂直的線性孔陣隨機形成液體微滴;

控制重復的印染時間，在此時間內上述隨機形成的液滴沿上述孔陣全部傳到該被染物表面，以獲得足夠的時間以便在沿線孔陣出現的微滴形成處理中能平均出期望的隨機變化;以及控制上述印染的間隔時間（在該時間內該隨機生成的微滴被截斷使其不能落到基底）以維持織物被染物印染部分每單位面積的可控液量V。

6、如權利要求5的方法，其中上述印染時間至少約為200微秒。

7、如權利要求5的方法，其中上述印染時間的選擇要保證每一印染時間內印到被染物上的液量的標準偏差約小于0.2。

8、當使用帶隨機微滴生成法的液體噴射印染裝置時，獲得以每單位面積理想的液量V將液體非常均勻地涂敷于織物被染物的方法，該方法包括的步驟有：

液體微滴自跨機孔陣隨機產生下落，該微滴下落通過微滴充電電極區，且若其在此充電，就會被靜電偏移到微滴俘獲機構，但若其不被充電，就繼續向下降落;

在上述孔陣下沿機器運動方向以速度V橫向傳送織物被染物，以便未被充電的微滴能落到傳送的被染物表面;

以及控制上述充電電極以使在遠遠大于200微秒的重復預定印染時間T內不對微滴充電，并在重復的間隔時間ST內對微滴充電，時間ST相應于機器運動方向沿被染物的預定距離，由此得到非常均勻涂復到被染物上每單位面積理想的液量V。

9、如權利要求8所述的方法，其中的印染時間T及間隔時間ST是變化的，它通過使印染時間T的變化近似于間隔時間ST變化的平方，來維持恒定的輸出液量V。

10、在采用隨機微滴生成法的一定范圍的紡織被染物的液體噴射靜電涂復機中，保證均勻性及密實性的方法，該方法包括如下步驟：

在重復的印染時間T內有選擇地把隨機形成的微滴色沉積到被染物上;

將上述印染時間T變化地控制在足夠大的預定最小值以上，以便在沿線性陣微滴生成的過程中基本上平均出期望的隨機變化;

獨立地和變化地控制被染物上沉積的微滴色間的中心到中心的間距，以得到被染物每單位面積所需要限制的給出液量;

以及協調上述受控的印染時間T及上述受控的間隔以保證在被染物的液體處理中至少在其一段內的均勻性和密實性。

11、如權利要求10的方法，其所述最小印染時間約為200微秒。

12、如權利要求10所述的方法，其中上述間隔作為被染物運動的函數而進行足夠的變化以提供沿被染物運動方向的可見的不均勻圖形。

13、把每單位面積的可控液量V均勻涂敷到運動織物基底的裝置包括：

一液體噴射靜電涂敷機，它沿線性孔陣采用隨機液滴形成處理，并且只在插入到間隔時間ST之間的可控印染時間T內，才把從所述線性孔陣隨機形成的微滴傳到其下面橫著運動的織物基底上;

將上述印染時間T維持在預定最小值以上的第一裝置;和通過控制上述間隔時間ST來控制上述液量V的第二裝置。