[其他]大環內酯抗菌素的制備方法無效
| 申請號: | 86103850 | 申請日: | 1986-04-30 |
| 公開(公告)號: | CN86103850A | 公開(公告)日: | 1987-04-29 |
| 發明(設計)人: | 約翰·巴里·沃德;黑茲爾·瑪麗·諾布爾;尼爾·波特;理查德·艾倫·弗萊頓;戴維·諾布爾;德里克·羅納德·薩瑟蘭;邁克爾·文森特·約翰拉姆齊 | 申請(專利權)人: | 格拉克索公司 |
| 主分類號: | C12P17/08 | 分類號: | C12P17/08;C07D493/22;A61K31/365;A01N43/90;//;1465) |
| 代理公司: | 中國專利代理有限公司 | 代理人: | 羅才希 |
| 地址: | 英國英格蘭·倫敦·克*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 內酯 抗菌素 制備 方法 | ||
1、一種制備結構式(Ⅱ)的化合物及其鹽的方法,
其中R1表示甲基、乙基或異丙基;R2表示氫原子或OR5基團(這里OR5是羥基或被取代的最多帶有25個碳原子的羥基);R3表示氫原子,或者R2和R3與它們相連的碳原子一起表示>C=0基;OR4表示上面定義過的OR5基團,
該方法包括:
(a)在其中R2和OR4的一個是或兩個都是被取代的羥基的化合物制備中,其中的R2和OR4一個是或兩個都是羥基的相應化合物與一個羥基取代試劑進行反應,在制備OR4是羥基的化合物時,在反應過程中OR4是被保護的羥基;
(b)在其中R2和R3都是氫原子的化合物制備中,還原其中R2是可均裂還原的原子或基團的相應化合物;
(c)在其中R2和R3一起表示一個氧代基團的化合物制備中,氧化其中R2是一OH的相應的化合物,在制備OR4是一OH的化合物的時,OR4是被保護的羥基;
(d)在其中R2或OR4是羥基的化合物制備中,從其中R2或OR4表示被保護的羥基的相應化合物上除去保護基;
(e)在結構式(Ⅱ)的酸的鹽的制備中,用堿處理這個酸或通過離子交換把一種鹽轉變成另一種鹽;或者
(f)在其中R2和R3一起表示一個氧代基團,OR4是-OH或甲氧基的化合物制備中,培養能夠產生至少一種上述化合物的鏈霉菌屬的生物體。
2、根據權利要求1的方法,其中(在產物中)R2和/或OR4是-OCOR6,-OCO2R6或-OCSOR6基團(式中R6是C1-8烷基;被1個或多個鹵素、羧基、C1-4烷氧基,苯氧基或甲硅烷氧基取代基取代的C1-8烷基;C2-8烯基;C2-8炔基;C3-12環烷基;芳烷基(其中烷基部分有1~6個碳原子,芳基含有4~15個碳原子或C4~C15的芳基)、甲酰氧基、-OR7基團(式中R7是C1-8烷基或被C3~7環烷基取代的C1~8烷基)、-OSO2R8基團(式中R8是C1-4烷基或C6-10芳基),甲硅烷氧基,(C5-7)環狀的或非環狀的縮醛氧基或-OCO(CH2)nCo2R9基團(其中R9是氫原子或上面為R6定義的基團,n表示0,1或2)。
3、根據權利要求1的方法,其中(在產物中)R1是異丙基。
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