[其他]非晶形的多金屬合金涂料的制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 86104496 | 申請日: | 1986-07-02 |
| 公開(公告)號: | CN86104496A | 公開(公告)日: | 1986-12-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 邁克爾·艾倫·坦霍弗爾;理查德·斯科特·亨德森;羅伯特·卡爾·格拉西里 | 申請(專利權(quán))人: | 標(biāo)準(zhǔn)石油公司 |
| 主分類號: | C23C16/06 | 分類號: | C23C16/06 |
| 代理公司: | 中國專利代理有限公司 | 代理人: | 羅才希 |
| 地址: | 美國俄亥俄州*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 晶形 金屬 合金 涂料 制造 方法 | ||
1、一種在基質(zhì)上沉積大體上為非晶形的多金屬涂料的方法,其特征在于該方法包括以下步驟:
(a)準(zhǔn)備至少兩種含金屬起始化合物,各含有所說的非晶形的多金屬涂料所需要的一種金屬,這些起始化合物的分解溫度要低于將要形成的非晶形的多金屬涂料的結(jié)晶溫度,
(b)在封閉系統(tǒng)加熱上述基質(zhì)的溫度,該溫度至少為上述起始化合物的分解溫度,
(c)使上述起始化合物揮發(fā),
(d)揮發(fā)的起始化合物與基質(zhì)在上述系統(tǒng)里接觸,使上述大體上為非晶形的多金屬涂料沉積在上述基質(zhì)上,
2、按照權(quán)利要求1的方法,其中所說的含金屬起始化合物包括有機金屬化合物。
3、按照權(quán)利要求1的方法,其中提供的非金屬的輔助起始化合物包括一些元素選自氮、碳、硼、磷、砷、硫和硅組中。
4、按照權(quán)利要求1的方法,其中所說的基質(zhì)包括一種材料選自一組包括玻璃、鈦、鋼、銅、碳、氧化鋁和鎳。
5、按照權(quán)利要求1的方法,其中所說的基質(zhì)加熱的溫度大約在100℃和700℃之間。
6、按照權(quán)利要求1的方法,其中所說的封閉系統(tǒng)維持在壓力大約1×10-6乇至大約700乇。
7、使大體上為非晶形的多金屬合金涂料在基質(zhì)上形成的方法包括以下步驟:
(a)準(zhǔn)備至少兩種含金屬起始化合物,各含有上述非晶形的多金屬涂料所需要的一種金屬,起始化合物分解的溫度比將要形成的非晶形多金屬涂料的結(jié)晶溫度低,
(b)在上述封閉系統(tǒng)里加熱上述基質(zhì)至少為上述起始化合物的分解溫度,
(c)使上述起始化合物揮發(fā),
(d)揮發(fā)的起始化合物與基質(zhì)在上述系統(tǒng)里接觸,使上述大體上為非晶形的多金屬涂料在上述基質(zhì)上形成。
8、按照權(quán)利要求7的大體上為非晶形的多金屬合金涂料,其中所說的合金含的非金屬元素選自一組包括磷、硼、氮、砷、硫、硅和碳。
9、按照權(quán)利要求7的大體上為非晶形的多金屬合金涂料,其中所說的合金由下式表示:
MaM′bRc
其中,M為最少一種元素選自一組包括Mo、W、Nb和Ta,
M′為最少一種元素選自一組包括Fe、Ni、Co、Mn和Cr,
R為最少一種元素選自一組包括P、B、N、As、S、Si和C,
a范圍由大約0.15至大約0.85,
b范圍由大約0.15至大約0.85,
c范圍由0至大約0.25,
限制條件為當(dāng)M′包括Cr,那么總數(shù)(b歸于M′元素而不是Cr+C)至少為0.15。
10、具有大體上為非晶形的多金屬合金涂料的涂料基質(zhì)其所屬通式為:
MaM′bRc
其中,M為最少一種元素選自一組包括Mo、W、Nb和Ta,
M′為最少一種元素選自一組包括Fe、Ni、Co、Mn和Cr,
R為最少一種元素選自一組包括P、B、N、As、S、Si和C,
a范圍由大約0.15至大約0.85,
b范圍由大約0.15至大約0.85,
c范圍0至大約0.25,
限制條件為:當(dāng)M′包括Cr,那么總數(shù)(b歸于M′元素而不是Cr+C)至少為0.15,
這些涂料由包括下列步驟的方法組成:
(a)準(zhǔn)備含金屬的起始化合物,其含有上述大體上為非晶形的多金屬涂料所需要的金屬,而該起始化合物的分解溫度低于將要形成的非晶形的多金屬涂料的結(jié)晶溫度,
(b)在封閉系統(tǒng)里加熱上述基質(zhì)的溫度最少為上述起始化合物的分解溫度,
(c)使上述起始化合物揮發(fā),
(d)在封閉系統(tǒng)里揮發(fā)的起始化合物與基質(zhì)接觸使上述大體上為非晶形的多金屬涂料在上述基質(zhì)上形成。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





