[其他]熒光面的形成方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 86106804
• 申請(qǐng)日: 1986-09-26
• 公開（公告）號(hào): CN1004663B
• 公開（公告）日: 1989-06-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 伊藤武夫;佐合誠司;渡部真悟
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東芝株式會(huì)社
• 代理公司: 上海專利事務(wù)所
• 代理人: 王孫佳

1、一種熒光面的形成方法，包括：在陰極射線管熒光屏上涂敷通過光照射會(huì)產(chǎn)生粘附性的抗蝕劑的工序、通過使抗蝕劑的面曝光成圖形狀從而使圖形狀顯示出粘附性的工序、在上述陰極射線管熒光屏中投入熒光體從而在出現(xiàn)了粘附性的抗蝕劑面上粘附熒光體的工序、從陰極射線管熒光屏上除去多余的熒光體的工序，其特征在于：上述的熒光體通過用粉體粒子對(duì)其表面進(jìn)行包覆而形成包覆體，該包覆后的BET法的比表面選定在熒光體包覆前的比表面的1.5～4.0倍之范圍內(nèi)。

2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的熒光面形成方法，其特征是所說的熒光體的平均粒徑是選在3μm～20μm。

3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的熒光面形成方法，其特征是所說的熒光體為ZnS熒光體，平均粒徑為6.5μm。

4、根據(jù)權(quán)利要求1所述的熒光面形成方法，其特征是所說的熒光體為Y₂O₂S熒光體，平均粒徑為6μm。

5、根據(jù)權(quán)利要求1所述的熒光面形成方法，其特征是所說的微粒子粉體為SiO₂、Zn（OH）₂、Al₂O₃、Fe₂O₃以及CoO·nAl₂O₃（群青）。