[其他]光記錄方法和采用該方法的裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 86107205
• 申請(qǐng)日: 1986-10-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN86107205A
• 公開(kāi)（公告）日: 1987-05-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 坪井信義;渡部篤美;佐藤美雄;田智;佐佐木宏
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 株式會(huì)社日立制作所
• 主分類(lèi)號(hào): G11B7/007
• 分類(lèi)號(hào): G11B7/007
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利代理部
• 代理人: 李強(qiáng)

本發(fā)明涉及光記錄方法和采用該方法的裝置，特別是涉及光記錄方法和使用適于利用光記錄介質(zhì)的方法的裝置，在上述光記錄介質(zhì)中信號(hào)是根據(jù)以下事實(shí)記錄的，當(dāng)光點(diǎn)照射到光記錄介質(zhì)上時(shí)，因?yàn)樵撎幍臏囟壬撸橘|(zhì)的光學(xué)特性發(fā)生了變化。

如在JP-A-59-68844中所描述的裝置，在其中將激光聚集成大約1微米（μm）的很小直徑的激光束并照射到如覆蓋著光敏記錄材料的旋轉(zhuǎn)光記錄盤(pán)上，以使高密度地記錄信號(hào)和再現(xiàn)記錄的信號(hào)，這種裝置具有下列優(yōu)越性：因?yàn)楦哂涗浢芏龋钥山档兔课坏拇尜A成本;可高速存取;在記錄和讀出過(guò)程中光學(xué)頭和光記錄盤(pán)互不接觸并因此改進(jìn)了光記錄盤(pán)和光記錄裝置的可靠性，這樣該裝置已被看成給未來(lái)信息化社會(huì)提供的新的記錄裝置和介質(zhì)。

作為用于光記錄的記錄介質(zhì)，已提出如具有薄記錄膜可由激光的熱能蒸發(fā)在薄膜中產(chǎn)生小孔的介質(zhì)和具有其光密度可由激光的熱能改變的記錄薄膜的介質(zhì)。

另外，對(duì)于在其中光密度可改變的記錄薄膜，已報(bào)道用非晶薄膜可以可逆地改變光密度。光密度可以可逆地改變的事實(shí)意味著信號(hào)可以記錄，再現(xiàn)和抹掉;然而，由非晶材料制造的記錄薄膜很不穩(wěn)定，即，非晶材料的晶化也可在室溫下發(fā)生，因而這種薄膜不適于長(zhǎng)期儲(chǔ)存記錄的數(shù)據(jù)。（Te），硒（Se）和錫（Sn）用來(lái)提高記錄的靈敏度;但這些材料對(duì)人體有有害的影響，并且在制造薄膜時(shí)或處理上述材料的廢棄物時(shí)，有產(chǎn)生污染問(wèn)題的可能性。另外，高記錄靈敏度意味著薄膜對(duì)于溫度，光等的影響是敏感的，它導(dǎo)致保留記錄數(shù)據(jù)的保持問(wèn)題。

作為光記錄介質(zhì)，還發(fā)展了合金，在合金中可在兩個(gè)不同的晶體狀態(tài)之間發(fā)生相變，并可用這些晶體間光反射系數(shù)的不同實(shí)現(xiàn)信息的記錄和消除。這種合金在JP-A-60-186825和JP-A-61-9542中描述。

對(duì)于有高密度記錄能力的記錄介質(zhì)，特別需要高速記錄功能去記錄日益增加的信息量。

因此本發(fā)明的目的是提供光記錄方法和使用這種方法的裝置，在其中信息可以高速地記錄。

本發(fā)明的另一目的是提供光記錄方法和使用這種方法的裝置，在其中信息可以高速地消抹和再記錄。

本發(fā)明的另一目的是提供光記錄方法和使用這種方法的裝置，在其中實(shí)現(xiàn)高溫加熱和高速冷卻的記錄操作以及進(jìn)行加熱和緩慢冷卻的消抹操作是很容易完成的。

根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方案，光記錄介質(zhì)的記錄位置預(yù)熱到低于預(yù)定的記錄所需溫度的一個(gè)溫度上，并根據(jù)記錄信息將該位置加熱到超過(guò)預(yù)定溫度的溫度，這樣就將信息記錄下來(lái)。更具體地，兩個(gè)在位置上相鄰的光點(diǎn)沿著記錄軌道照在光記錄介質(zhì)上，其中的前光點(diǎn)預(yù)熱記錄位置，而后光點(diǎn)在其上記錄信息。

根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施方案，使用光記錄介質(zhì)，在其中通過(guò)將記錄介質(zhì)加熱至等于或高于第一個(gè)溫度的溫度處實(shí)現(xiàn)記錄操作，通過(guò)將記錄介質(zhì)加熱到第一個(gè)溫度與高于第一個(gè)溫度的第二個(gè)溫度之間的溫度以實(shí)現(xiàn)消抹操作，在此兩個(gè)相互緊鄰的光點(diǎn)沿著記錄軌道照在光記錄介質(zhì)上，使得前光點(diǎn)將記錄位置加熱到第一個(gè)溫度和第二個(gè)溫度之間的溫度上，由此抹掉了記錄的信息并同時(shí)預(yù)熱了記錄位置，而后光點(diǎn)根據(jù)待記錄信息將記錄位置加熱到不低于第一個(gè)溫度的溫度上，從而記錄了信息。

根據(jù)本發(fā)明的又一實(shí)施方案，第二個(gè)溫度設(shè)在超過(guò)室溫處，而第一個(gè)溫度則設(shè)在第二個(gè)溫度上，其中確定第一個(gè)條件（在此條件下冷卻加熱到超過(guò)第一個(gè)溫度的溫度上的光記錄介質(zhì)）的第一個(gè)光點(diǎn)和確定第二個(gè)條件（在此條件下冷卻加熱到超過(guò)第二個(gè)溫度但不超過(guò)第一個(gè)溫度的溫度上的光記錄介質(zhì)）的第二個(gè)光點(diǎn)照在光記錄介質(zhì)的導(dǎo)導(dǎo)軌上，以便它們位于互相相鄰的位置上，這樣通過(guò)控制每個(gè)光點(diǎn)的直徑和/或它們的光強(qiáng)在光記錄介質(zhì)上記錄和消抹信號(hào)。更具體地，基于實(shí)驗(yàn)確認(rèn)的造成導(dǎo)致光反射系數(shù)變化的相變所需的溫度和時(shí)間之上，作為確定第一個(gè)和第二個(gè)條件的裝置，提供了兩臺(tái)具有不同波長(zhǎng)的激光器;而光學(xué)系統(tǒng)這樣構(gòu)成，使得由兩臺(tái)激光器之一發(fā)射的光束剛好聚焦，而來(lái)自另一激光器的光束產(chǎn)生散焦條件。控制每個(gè)光點(diǎn)的直徑和每個(gè)激光束的強(qiáng)度，使得記錄介質(zhì)利用散焦光點(diǎn)預(yù)熱或緩慢冷卻，并利用剛好聚焦的光點(diǎn)提高到預(yù)定的溫度，從而在記錄介質(zhì)上記錄信號(hào)，或消抹記錄的信號(hào)。

根據(jù)如下附圖的詳細(xì)描述將使本發(fā)明變得很明顯：

圖1是描述本發(fā)明的實(shí)施方案的示意圖;

圖2是用來(lái)解釋在光盤(pán)上記錄和消抹的基本原理的示意圖;

圖3A-6C是描述根據(jù)本發(fā)明的裝置中記錄和消抹信息的操作的示意圖;

圖7是顯示設(shè)置在盤(pán)中的槽的例子的示意圖;

圖8是描述本發(fā)明的另一實(shí)施方案的示意圖。