[其他]有關(guān)粒料處理的改良方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 86108214
• 申請日: 1986-12-05
• 公開（公告）號: CN86108214B
• 公開（公告）日: 1988-05-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 羅蘭·克利夫特;羅杰·威廉·赫奇頓·海傍米爾福德·喬治路;羅伯特·勒格羅斯;克萊夫·艾倫·米林頓
• 申請（專利權(quán)）人: 英美煙草公司
• 主分類號: B01J8/46
• 分類號: B01J8/46;A24B3/04;F26B17/10
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 楊鋼

1、一個處理粒料的方法，其中在墻裝置的各位置把氣體流動介質(zhì)供應(yīng)到流動區(qū)，因而在所述流動區(qū)內(nèi)形成一個循環(huán)系統(tǒng)，即在墻裝置產(chǎn)生向下氣流，在區(qū)的下半部則產(chǎn)生向上氣流，使得粒料在流動區(qū)內(nèi)處于流動狀態(tài)，該流動區(qū)是被向上垂直岔開的墻裝置所包圍，將氣體加速介質(zhì)從流動區(qū)的下部向上供應(yīng)到流動區(qū)，并把罩蓋裝置移下到流動區(qū)的較高位置，在這位置上，罩蓋裝置從向上伸展的管裝置的較低的、開口端向外伸展，從而粒料通過管裝置由氣動向上傳送。

2、流動設(shè)備，包括限制流動區(qū)的圍墻裝置，所述墻裝置是向上垂直岔開，從而使流動區(qū)的水平橫切面面積向上增加，在墻裝置的多個位置設(shè)有提供氣體流動介質(zhì)的流動噴咀和在流動區(qū)下半部分設(shè)有向上供應(yīng)氣體加速介質(zhì)的加速噴咀，包括排出裝置，所述排出裝置包括向上伸展的排出管裝置和進一步包括活動于一個封閉位置和一個非封閉位置之間的罩蓋裝置，所述罩蓋于所述封閉位置提供一道從流動區(qū)末端的所述管裝置向外伸展的氣流擋板。

3、按照權(quán)利要求2的設(shè)備，其中的所述管裝置包括第一固定管和可以套疊滑套第一管的第二管裝置。

4、按照權(quán)利要求2或3的設(shè)備，其中，所述罩蓋裝置是固定在所述管裝置上。

5、按照權(quán)利要求2或3的設(shè)備，其中，當(dāng)所述罩蓋是在封閉位置時，所述罩蓋的外邊與所述設(shè)備的墻接觸。

6、按照權(quán)利要求2的設(shè)備，其中，所述排出裝置進一步包括能推動處于封閉和非封閉位置之間的所述凸緣裝置的驅(qū)動裝置。