[其他]光學(xué)傳感器無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 86108567 | 申請日: | 1986-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN86108567A | 公開(公告)日: | 1987-10-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 梅丁·艾克蒂克 | 申請(專利權(quán))人: | 米特爾公司 |
| 主分類號: | H01L31/10 | 分類號: | H01L31/10;H01L31/18;H04B9/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理有限公司 | 代理人: | 肖春京,杜有文 |
| 地址: | 加拿大*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué) 傳感器 | ||
1、一種光敏二極管單元,包括構(gòu)成陰極的第一層n-型材料和構(gòu)成陽極的第二層P+型材料,該第二層位于第一層之上,是一種能透過光能的材料,該光敏二極管單元的特征在于,所述的第一層由氫化非晶硅制作而成,在經(jīng)受上述光能照射后,它變成良導(dǎo)電體。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所定義的光敏二極管單元,其特征在于,上述的第二層是由注入至上述第一層中的P+材料所構(gòu)成。
3、根據(jù)權(quán)利要求1所定義的光敏二極管單元,其特征在于,上述的第二層由透明金屬所構(gòu)成,從而在結(jié)點(diǎn)處形成肖特基勢壘,將所述的第一層和第二層分開。
4、根據(jù)權(quán)利要求1,2,或3所定義的光敏二極管單元,其特征進(jìn)一步在于,其中包括一個第一金屬化層,它在上述第一層下面形成陰極接點(diǎn);還包括一個第二金屬化層,它在上述第二層上面形成陽極接點(diǎn),并具有一個或多個開孔,以便所述的第一層和第二層能接受光照。
5、根據(jù)權(quán)利要求2所定義的光敏二極管單元,其特征進(jìn)一步在于,在上述的第二層上面有一個高溫玻璃層。
6、根據(jù)權(quán)利要求1,2,或3所定義的光敏二極管單元,其特征進(jìn)一步在于,在上述的第一層和第二層下面,有一氧化物襯底層。
7、根據(jù)權(quán)利要求1,2,或3所定義的光敏二極管單元,其特征進(jìn)一步在于,在上述的第一層和第二層下面,有一高溫玻璃襯底層。
8、一種根據(jù)權(quán)利要求1所定義的多個光敏二極管單元組成的光敏二極管陣列,其特征在于,該陣列排列成矩陣形式,而矩陣是由第一組列導(dǎo)體和第二組位于上述列導(dǎo)體之上的行導(dǎo)體組成,上述二極管單元中的各個二極管位于相應(yīng)的所述行導(dǎo)體和列導(dǎo)體交叉點(diǎn)處,上述二極管單元中每個二極管陰極與相應(yīng)的列導(dǎo)體相連,而其陽極與相應(yīng)的行導(dǎo)體相連。
9、根據(jù)權(quán)利要求8所定義的光敏二極管陣列,其特征進(jìn)一步在于,它是一種借助于上述的行導(dǎo)體和列導(dǎo)體尋址二極管單元中各個二極管的裝置,同時也是探測上述被尋址單元中預(yù)定單元的光導(dǎo)并產(chǎn)生響應(yīng)該光導(dǎo)的圖象輸出信號的裝置。
10、根據(jù)權(quán)利要求9所定義的光敏二極管陣列,其特征在于,上述的尋址裝置是由將上述各個行導(dǎo)體接地的第一個多路開關(guān)和將上述各個列導(dǎo)體接至所述探測器裝置的另一個多路開關(guān)以及邏輯控制電路所組成,邏輯控制電路的作用是選擇接通上述多路開關(guān)預(yù)定的一路,使得上述二極管單元中的各個單元能依次與地和所述探測裝置串接,從而達(dá)到尋址目的。
11、根據(jù)權(quán)利要求10所定義的光敏二極管陣列,其特征在于,所述的探測器裝置由一個連接至上述的另一多路開關(guān)的反向差分放大器組成,該放大器用于放大當(dāng)所述二極管單元中某一單元被光照射后由于光導(dǎo)作用而產(chǎn)生的電流信號,并產(chǎn)生對應(yīng)的上述圖象輸出信號。
12、一種制作光敏二極管單元的方法,其特征在于包括以下步驟:
(a)沉積和腐蝕一層第一金屬化層,
(b)在上述的金屬化層上面沉積和腐蝕一層n-型氫化非晶硅,形成上述二極管單元的陰極部分,
(c)將P+材料注入上述n-型層的預(yù)定部分,形成上述二極管單元的陽極部分,
(d)再沉積和腐蝕另一金屬化層,用于連接上述P+注入部分,
(e)將上述的第一和另一金屬化層分別同外部陰極和陽極接點(diǎn)連接起來。
13、根據(jù)權(quán)利要求12所定義的方法,其特征進(jìn)一步在于還包括以下步驟,即在沉積上述第一金屬化層之前,先沉積和腐蝕一層n+多晶硅,從而在上述的第一層和n-型之間形成歐姆接觸。
14、根據(jù)權(quán)利要求12或13所定義的方法,其特征進(jìn)一步在于它還包括下述步驟:在上述n-型層上面沉積和腐蝕一層第二金屬化層,從而在它們之間形成一肖特基勢壘,另外,在預(yù)先沉積好的上述各層整個外面沉積一層高溫玻璃,經(jīng)過上述的高溫玻璃,形成連接上述第二金屬化層和另一金屬化層的接點(diǎn)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





