[其他]槽邊廢水循環直接凈化自控雙聯槽

無效

• 申請號: 86203085
• 申請日: 1986-07-04
• 公開（公告）號: CN86203085U
• 公開（公告）日: 1987-04-01
• 發明（設計）人: 孫大通;陳世其;羅耀宗
• 申請（專利權）人: 羅耀宗;孫大通;陳世其
• 主分類號: C02F1/52
• 分類號: C02F1/52
• 代理公司: 中國科學院上海專利事務所
• 代理人: 薛嘉俊,魏冀秋

本實用新型是電鍍工藝流程中對鍍畢零件進行即時清洗工序，並能循環處理清洗廢水的裝置，屬環保設備中的廢水處理設備。

由國內外報導看，目前對電鍍廢水的處理大都采用化學方法。其基本原理和方法雖然相似，但在設備結構上都是各有不同，競相作精心改革。當前對單一離子電鍍廢水處理（稱一級處理），常用的有離子交換法、反滲透法和電解法等，這些方法的缺點是，前二者的設備復雜，投資大，操作復雜，占地也較大；后一種方法雖對高濃度廢水有回收價值，但廢水排放難以達標，還必須配備其它處理措施。因此，有不少電鍍作業單位對單一離子電鍍廢水不作處理，而是將多種廢水直接排入化學反應池，然后進行處理。當前對混合離子電鍍廢水的處理，一般是讓其排入終端化學反應池，在此池中進行化學處理（稱二級處理），即使其沉淀，把水放掉。這樣的處理方法其清洗水中各種陰離子較多難以回用，而且各種混合重金屬離子固體也無法回用，特別是若電鍍工藝中無前級單金屬離子處理措施，則給二級處理增加了負擔，帶來處理場地龐大，投資高，操作管理復雜，污泥造成二次污染等一系列問題，加上因無一級處理措施，就要用較多的水沖洗另件，所以嚴重浪費水源和污染環境。

本實用新型的目的，是為了克服以上現有化學處理方法中占地大，操作管理復雜，水源浪費，因而水處理效果不理想等缺點而提出的。把本實用新型直接設置在電鍍槽邊，一方面作清洗電鍍零件之用，另一方面用來循環處理廢水。

本實用新型在電鍍工藝流程中的安排屬處理（1）、處理（2）工序，構成槽邊廢水循環直接凈化的雙聯槽。其系統結構如附圖1所示。其中：〔1〕為循環清洗Ⅰ槽，〔2〕為斜板沉淀過濾槽，〔3〕為循環清洗Ⅱ槽，〔4〕為排泥閥，〔5〕為循環水泵，〔6〕為流量調節閥，〔7〕為流量計，〔8〕為水力旋轉電極刷，〔9〕為監測復合電極，〔10〕為電磁閥，〔11〕為溶液貯箱，〔12〕為自控系統控制箱，〔13〕污泥脫水槽，〔14〕為引水罐。由附圖1知，引水罐〔14〕上部的進口管道與循環清洗Ⅱ槽〔3〕的底部連接，在水泵的作用下，將Ⅱ槽的水抽至引水罐，此時Ⅱ槽水位降低，由Ⅰ槽的水補充Ⅱ槽。引水罐底部的出水口與循環水泵〔5〕的進水口連接，水泵的出水口接流量計〔7〕，流量計的另一頭接流量調節閾〔6〕，該閥的另一頭通向裝在循環清洗Ⅰ槽〔1〕中的水力旋轉電極刷〔8〕。在水泵〔5〕的作用下循環地把Ⅱ槽〔3〕中的水引入Ⅰ槽〔1〕，這股水流一方面推動裝在旋轉電極刷〔8〕中的葉輪轉動，從而帶動電極刷〔8〕轉動，另一方面從旋轉電極刷的出水口噴出，帶動循環清洗Ⅰ槽內的溶液旋轉起來，同時又補充了從Ⅰ槽流至Ⅱ槽的水位。在Ⅰ槽〔1〕底部用PVC塑料管與斜板沉淀過濾槽〔2〕的底連接，則Ⅰ槽〔1〕中經化學處理的含有沉淀物的混合液流在液位差的作用下流向沉淀過濾槽〔2〕，在此槽中液流由下向上經過斜板區和過濾層，一方面沉淀物在特殊結構的斜板上沉淀下來，並沿裝在斜板上的導流板滑向槽的兩側，流入裝在此槽下部的污泥管，繼而在排泥閥〔4〕的作用下把含有較多水份的污泥排入污泥脫水槽；另一方面經過過濾層網的較清潔的水流入循環清洗Ⅱ槽〔3〕。由此，水流進行循環。本實用新型配有溶液貯箱〔11〕，內裝NaOH、凝聚劑（PAM）和表面活性劑的混合液。該箱的管道出口經電磁閥〔10〕與水力旋轉電極刷〔8〕的出口相通。與水力旋轉電極刷相接觸的監測復合電極把測得的PH值信號送入裝在自控系統控制箱〔12〕中的酸度計上，並把PH值信號轉換成電信號，以此來控制電磁閥〔10〕的開閉狀態，從而自動調節循環清洗Ⅰ槽〔1〕中溶液的PH值達到所需的范圍。

現結合實施例對本實用新型作進一步說明。

圖2為本實施例的正視圖。

圖3為右側視圖。

圖4為單塊斜板結構示圖。